お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2008-04-18 16:10
ゾルゲル法によるBi:YIG/SiO2積層膜の形成と磁気及び磁気光学特性
山本雄大山本勇樹豊橋技科大)・高木宏幸豊田高専)・金 周映井上光輝豊橋技科大R2008-7 CPM2008-7 OPE2008-7 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2008-7 OPE2008-7
抄録 (和) これまで,我々は緑色から青色の可視光領域で磁気光学材料の光吸収低減を目的とし,コンポジット膜の研究を行ってきた.エアロゾルデポジション法で磁性ガーネット材料と誘電体材料のコンポジット膜を作製した結果,誘電体材料の割合を増加させることが光吸収低減に効果的なことを確認した.本研究では,青色の可視光領域における磁気光学材料の開発のため,ゾルゲル法でコンポジット膜を形成した.その膜を磁性フォトニック結晶の欠陥層に導入し,磁気、光学および磁気光学特性について調査した. 
(英) Recently, composite films consisting of magnetic garnet materials and dielectric materials, which were fabricated by aerosol deposition method, were studied for realizing novel magneto-optic materials for shorter wavelength of light near blue region. Inclusion of dielectric material was found to be effective for reducing the optical losses of the film in visible wavelengths. In this study, to materializing novel MO films which are able to operate of blue optical region, magnetophotonic crystals with the composite film as a defect layer were fabricated by the sol-gel method, and their fundamental magnetic, optical and MO responses were investigated experimentally.
キーワード (和) 磁気光学材料 / 光吸収 / コンポジット膜 / ゾルゲル法 / 磁性フォトニック結晶(MPC) / / /  
(英) composite films / magneto-optic materials / optical loss / magnetophotonic crystal / sol-gel method / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 8, CPM2008-7, pp. 37-42, 2008年4月.
資料番号 CPM2008-7 
発行日 2008-04-11 (R, CPM, OPE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード R2008-7 CPM2008-7 OPE2008-7 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2008-7 OPE2008-7

研究会情報
研究会 OPE CPM R  
開催期間 2008-04-18 - 2008-04-18 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 光部品の実装・信頼性、一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2008-04-OPE-CPM-R 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ゾルゲル法によるBi:YIG/SiO2積層膜の形成と磁気及び磁気光学特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of Bi:YIG/SiO2 multilayer films by sol-gel method and their magnetic and magneto-optical properties 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 磁気光学材料 / composite films  
キーワード(2)(和/英) 光吸収 / magneto-optic materials  
キーワード(3)(和/英) コンポジット膜 / optical loss  
キーワード(4)(和/英) ゾルゲル法 / magnetophotonic crystal  
キーワード(5)(和/英) 磁性フォトニック結晶(MPC) / sol-gel method  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 雄大 / Yudai Yamamoto / ヤマモト ユウダイ
第1著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Univ. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 勇樹 / Yuuki Yamamoto / ヤマモト ユウキ
第2著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Univ. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 高木 宏幸 / Hiroyuki Takagi / タカギ ヒロユキ
第3著者 所属(和/英) 豊田工業高等専門学校 (略称: 豊田高専)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyota Nat'l Col. of Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 金 周映 / Jooyoung Kim / キム ジュヤン
第4著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Univ. of Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 井上 光輝 / Mitsuteru Inoue / イノウエ ミツテル
第5著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: Toyohashi Univ. of Tech.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2008-04-18 16:10:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 R2008-7, CPM2008-7, OPE2008-7 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.7(R), no.8(CPM), no.9(OPE) 
ページ範囲 pp.37-42 
ページ数
発行日 2008-04-11 (R, CPM, OPE) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会