講演抄録/キーワード |
講演名 |
2008-01-30 13:55
有機金属気相選択成長法によるInGaAs系ナノワイヤの形成とその電気的評価 ○登坂仁一郎・佐藤拓也・本久順一・原 真二郎・福井孝志(北大) ED2007-238 SDM2007-249 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2007-238 SDM2007-249 |
抄録 |
(和) |
半導体ナノワイヤは、その特異な形状とサイズの微小さから、サランウンディングゲートFET、転位のない高輝度発光デバイス等への応用が期待されている。特に、サラウンディングゲートFETに関しては、ショートチャネル効果の抑制、相互コンダクタンスの上昇が見込まれ、次世代のFET構造として脚光を浴びている。実験では、SiドープInGaAsナノワイヤをSi/SiO2基板に散布し、Ti/Auによりオーミック電極を形成した。その後Alによるショットキーゲートを形成し、ナノワイヤの背面はMIS構造、上面は動径方向ゲート被服率約80%のMES構造ゲートを作製し単一のナノワイヤに対し電気的評価を行った。 |
(英) |
Semiconductor nanowires are attracting much attention as a new class of nanoscale materials. Particularly, vertical surrounding gate FETs, which is a one of the useful applications utilizing semiconductor nanowires, have been expected to show superior transconductance, high current on-off (Ion/off) ratio and reduced short channel effects compared with conventional planar type FETs. In experiment, Silicon-doped n-InGaAs nanowires were grown by catalyst-free selective-area metal-organic vapor-phase epitaxy (SA-MOVPE). The nanowire FETs with MIS back-gate and 80 % coverage MES top-gate on SiO2-coated Si substrates were fabricated and characterized by defining metal contacts at both ends of the nanowires and the Al top-gate between contacts. |
キーワード |
(和) |
ナノワイヤ / ナノFET / 有機金属気相成長 / 選択成長 / / / / |
(英) |
nanowire / nano-FET / MOVPE / selective area growth / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 107, no. 473, ED2007-238, pp. 5-10, 2008年1月. |
資料番号 |
ED2007-238 |
発行日 |
2008-01-23 (ED, SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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