講演抄録/キーワード |
講演名 |
2008-01-18 15:20
感光性樹脂を用いた5μm厚めっきCuによる多層配線技術 ○菊池 克(NEC)・副島康志(NECエレクトロニクス)・石井康博(NEC)・川野連也(NECエレクトロニクス)・水野正之・山道新太郎(NEC) CPM2007-146 ICD2007-157 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2007-146 ICD2007-157 |
抄録 |
(和) |
我々は,LSIと実装基板の接続領域の配線技術,5μm厚めっきCu多層配線技術及びCu配線間への陽極酸化アルミナを用いたキャパシタ技術の開発に成功した.本技術によるLSIサンプルでは,多層配線では通常のAl配線LSIより5倍のIR-Drop改善効果を,陽極酸化アルミナキャパシタでは,200MHz以上で20dbAの高周波ノイズ低減を実証した.本技術はウェットプロセスを基本としているため,今後のLSIの電気特性改善やコスト低減に対して有効であり,実装基板とのデザインルール差を緩和できる有望な技術である. |
(英) |
We have successfully developed a multi-layer wafer-level 5-um-thick Cu wiring technology and an embedded on-chip capacitor technology with anodized Al2O3. We observed that our wafer-level Cu wiring technology improved IR-drop five times as small as conventional LSI, and our anodized Al2O3 capacitor technology obtained noise reduction of 20 dBA over 200 MHz. These technologies are believed to provide not only advanced LSIs with stable power supply wirings and higher speed operation, but also connectivity between LSIs and packaging substrates. |
キーワード |
(和) |
感光性樹脂 / 電解Cuめっき / 陽極酸化 / アルミナ / / / / |
(英) |
Photosensitive resin / Cu electroplate / Anodization / Alumina / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 107, no. 425, CPM2007-146, pp. 105-110, 2008年1月. |
資料番号 |
CPM2007-146 |
発行日 |
2008-01-10 (CPM, ICD) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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