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講演抄録/キーワード
講演名 2007-12-14 14:40
高アスペクト比ドライエッチング技術を用いて作製したシリコンフォトニック結晶デバイス
細見和彦東大/光協会/日立)・山田宏治赤松正二東大/光協会)・佐川みすず東大/光協会/日立)・勝山俊夫東大/光協会)・荒川泰彦東大エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2007-139
抄録 (和) 偏光依存性のないフォトニック結晶デバイス実現のために、高アスペクト比ドライエッチング技術を用いて作製する一次元および三次元のシリコンフォトニック結晶デバイスの開発を行っている。一次元フォトニック結晶の完全結晶を作製し良好な光学特性を観測した。また、微小共振器構造を用いた屈折率センサーの原理検証実験を行った。更に、三次元フォトニック結晶作製の為の45°円孔斜めエッチング技術の開発を行った。 
(英) To realize photonic crystal devices with no polarization dependence, we have been developing 1D- and 3D-silicon photonic crystal devices fabricated using high-aspect ratio dry etching technique. We fabricated 1D perfect photonic crystal and measured optical transmission properties. We also demonstrated fundamental function of chemical sensor using micro cavity made of 1D photonic crystal. In addition, we developed 45 degree angled etching technique, which enables fabrication of 3D photonic crystals with conventional semiconductor processes.
キーワード (和) フォトニック結晶 / 高アスペクトドライエッチング / 微小共振器 / / / / /  
(英) Photonic crystal / High-Aspect Ratio Dry Etching / Micro Cavity / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 107, no. 389, OPE2007-139, pp. 21-26, 2007年12月.
資料番号 OPE2007-139 
発行日 2007-12-07 (OPE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2007-139

研究会情報
研究会 OPE  
開催期間 2007-12-14 - 2007-12-14 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS)、シリコンフォトニクス、光ファイバ、一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2007-12-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高アスペクト比ドライエッチング技術を用いて作製したシリコンフォトニック結晶デバイス 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) silicon photonic crystal device fabricated using high-aspect ratio dry etching technique 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) フォトニック結晶 / Photonic crystal  
キーワード(2)(和/英) 高アスペクトドライエッチング / High-Aspect Ratio Dry Etching  
キーワード(3)(和/英) 微小共振器 / Micro Cavity  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 細見 和彦 / Kazuhiko Hosomi / ホソミ カズヒコ
第1著者 所属(和/英) 日立製作所中央研究所 (略称: 東大/光協会/日立)
Hitachi Ltd., Central Research Laboratory (略称: Hitachi CRL)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 山田 宏治 / Hiroji Yamada / ヤマダ ヒロジ
第2著者 所属(和/英) 光産業技術振興協会 (略称: 東大/光協会)
Optoelectronic industry and technology development association (略称: OITDA)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 赤松 正二 / Shoji Akamatsu / アカマツ ショウジ
第3著者 所属(和/英) 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センタ (略称: 東大/光協会)
Nanoelectronics Collaborative Research Center, University of Tokyo (略称: NCRC., Univ. of Tokyo)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐川 みすず / Misuzu Sagawa / サガワ ミスズ
第4著者 所属(和/英) 日立製作所中央研究所 (略称: 東大/光協会/日立)
Hitachi Ltd., Central Research Laboratory (略称: Hitachi CRL)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 勝山 俊夫 / Toshio Katsuyama / カツヤマ トシオ
第5著者 所属(和/英) 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センタ (略称: 東大/光協会)
Nanoelectronics Collaborative Research Center, University of Tokyo (略称: NCRC., Univ. of Tokyo)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 荒川 泰彦 / Yasuhiko Arakawa / アラカワ ヤスヒコ
第6著者 所属(和/英) 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センタ (略称: 東大)
Nanoelectronics Collaborative Research Center, University of Tokyo (略称: NCRC., Univ. of Tokyo)
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講演者
発表日時 2007-12-14 14:40:00 
発表時間 25 
申込先研究会 OPE 
資料番号 IEICE-OPE2007-139 
巻番号(vol) IEICE-107 
号番号(no) no.389 
ページ範囲 pp.21-26 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-OPE-2007-12-07 


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