研究会情報 |
研究会 |
CPM |
開催期間 |
2007-11-16 - 2007-11-17 |
開催地(和) |
長岡技術科学大学 |
開催地(英) |
Nagaoka University of Technology |
テーマ(和) |
薄膜プロセス・材料、一般 |
テーマ(英) |
Process of Thin Film formation and Materials, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2007-11-CPM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
2スパッタ源反応性スパッタ法によるTiO2薄膜の高速堆積 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
HIgh rate reactive sputter-deposition of TiO2 films by using two sputtering sources |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
境 哲也 / Tetsuya Sakai / サカイ テツヤ |
第1著者 所属(和/英) |
東京工芸大学 (略称: 東京工芸大)
Tokyo Polytechnic University (略称: Tokyo Polytechnic Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
神谷 攻 / Osamu Kamiya / カミヤ オサム |
第2著者 所属(和/英) |
東京工芸大学 (略称: 東京工芸大)
Tokyo Polytechnic University (略称: Tokyo Polytechnic Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨウイチ |
第3著者 所属(和/英) |
東京工芸大学 (略称: 東京工芸大)
Tokyo Polytechnic University (略称: Tokyo Polytechnic Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ |
第4著者 所属(和/英) |
新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 所属(和/英) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第3著者 |
発表日時 |
2007-11-16 15:10:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
CPM2007-109 |
巻番号(vol) |
vol.107 |
号番号(no) |
no.325 |
ページ範囲 |
pp.23-27 |
ページ数 |
5 |
発行日 |
2007-11-09 (CPM) |