講演抄録/キーワード |
講演名 |
2007-11-16 16:35
ZrNバリヤを用いたCu/層間絶縁膜間の界面制御 武山真弓・○佐藤 勝・野矢 厚(北見工大) CPM2007-112 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2007-112 |
抄録 |
(和) |
ナノ結晶組織からなるN-rich 組成のZrN 薄膜をCu とSiO2 間の極薄拡散バリヤとして適用し、そのバリヤ特性を調べた。Cu/ZrN(5 nm)/SiO2/Si 積層構造は500℃30 分の熱処理によっても安定であることが確認され、X線反射率測定の結果、5 nm 厚さのZrN バリヤはその接する界面においても、固相反応や相互拡散による界面層のない安定な状態で存在しており、極薄拡散バリヤとして有用な特質を備えていることが示された。このことは、得られたZrN 薄膜のナノ結晶組織の安定性とZrN の化合物としての安定性に起因しているものと考えられた。 |
(英) |
We have examined the nano-crystalline thin ZrN film with a nitrogen-rich composition as an extremely thin diffusion barrier interposed between Cu and SiO2. A high performance 5 nm-thick ZrN barrier in the Cu/ZrN(5 nm)/SiO2/Si system tolerates annealing at 500シC for 30 min. The grazing incidence X-ray reflectivity measurement indicates that the 5nm-thick ZrN barrier is stable without any interface layers owing to a solid-phase reaction and/or intermixing with adjoining layers. These excellent features arise from the stability of the nano-crystalline texture of the ZrN barrier and thermochemical stability of the ZrN compound phase. |
キーワード |
(和) |
ZrN / ナノ結晶 / 拡散バリヤ / 界面層 / / / / |
(英) |
ZrN / Nano Crystalline / Diffusion Barrier / Interface Layer / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 107, no. 325, CPM2007-112, pp. 39-42, 2007年11月. |
資料番号 |
CPM2007-112 |
発行日 |
2007-11-09 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
CPM2007-112 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2007-112 |
研究会情報 |
研究会 |
CPM |
開催期間 |
2007-11-16 - 2007-11-17 |
開催地(和) |
長岡技術科学大学 |
開催地(英) |
Nagaoka University of Technology |
テーマ(和) |
薄膜プロセス・材料、一般 |
テーマ(英) |
Process of Thin Film formation and Materials, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2007-11-CPM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
ZrNバリヤを用いたCu/層間絶縁膜間の界面制御 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Suppression of interfacial reaction and/or diffusion in Cu/ZrN/field insulating film/Si system |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
ZrN / ZrN |
キーワード(2)(和/英) |
ナノ結晶 / Nano Crystalline |
キーワード(3)(和/英) |
拡散バリヤ / Diffusion Barrier |
キーワード(4)(和/英) |
界面層 / Interface Layer |
キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama / タケヤマ マユミ |
第1著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. of Technol.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
佐藤 勝 / Masaru Sato / サトウ マサル |
第2著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. of Technol.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
野矢 厚 / Atsushi Noya / ノヤ アツシ |
第3著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. of Technol.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第2著者 |
発表日時 |
2007-11-16 16:35:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
CPM2007-112 |
巻番号(vol) |
vol.107 |
号番号(no) |
no.325 |
ページ範囲 |
pp.39-42 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2007-11-09 (CPM) |