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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2007-11-16 17:00 サファイア基板及び白金電極上のCr2O3スパッタ薄膜の結晶成長 ○大月俊平・浅田 毅・岩田展幸・山本 寛（日大）  CPM2007-113 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2007-113 |
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| 抄録 | （和） | 気磁気効果とは、電界印加によって磁化Mが誘起される現象、もしくは、その逆である。本研究では、電気磁気効果を有する反強磁性絶縁体Cr2O3薄膜をサファイア基板上及び、Pt薄膜上に堆積させた。薄膜は、off-axis、DC-RFマグネトロンスパッタ法により作製した。基板温度600°Cで最も結晶性の良いCr2O3薄膜がAl2O3(0001)面上に成長した。平均面粗さ(Ra)、半値幅はそれぞれ、0.28 nm、0.23°となった。XRD、RHEEDの結果より、基板の結晶軸に沿ってエピタキシャル成長していることを確認した。Pt//Al2O3(101(―)2)上のCr2O3薄膜の表面にスパイラル成長を確認した。ステップ高さは0.17 nm ～0.32 nm となり、原子レベルで平坦であった。また、Raは0.28 nmであった。サファイア基板上とPt薄膜上で、最適Ar、O2流量比が異なるのは、サファイアとCr2O3、PtとCr2O3の格子不整合の違いに起因すると考えている。 |
| （英） | The Cr2O3 thin films were grown on sapphire substrate and Pt film to apply magnetoelectric oxides to oxides electronics. The Cr2O3 is a representative magnetoelectric material with antiferromagnetic insulator. From the results of XRD and RHEED, epitaxial Cr2O3 thin films grew on sapphire substrate with the relationship that film crystal axes are all parallel to those of substrate using off-axis DC-RF magnetron sputtering method. At 600°C on Al2O3(0001), surface roughness (Ra) of the film was 0.28 nm, and full width at half maximum of rocking curve for Cr2O3(0006) Bragg reflection was 0.23°. Cr2O3 film showed spiral growth on Pt(111) film. The step height was from 0.17 nm to 0.32 nm. The Ra was 0.28 nm. | |
| キーワード | （和） | 電気磁気効果 / 電極 / Cr2O3 / Pt / Al2O3 / / / |
| （英） | magnetoelectric (ME) effect / electode / Cr2O3 / Pt / Al2O3 / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 107, no. 325, CPM2007-113, pp. 43-48, 2007年11月. | |
| 資料番号 | CPM2007-113 | |
| 発行日 | 2007-11-09 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2007-113 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2007-113 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2007-11-16 - 2007-11-17 |
| 開催地（和） | 長岡技術科学大学 |
| 開催地（英） | Nagaoka University of Technology |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料、一般 |
| テーマ（英） | Process of Thin Film formation and Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2007-11-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | サファイア基板及び白金電極上のCr2O3スパッタ薄膜の結晶成長 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Crystal Growth of Cr2O3 Sputtered Films on Sapphire Substrates and platinum electrode |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 電気磁気効果 / magnetoelectric (ME) effect |
| キーワード(2)（和/英） | 電極 / electode |
| キーワード(3)（和/英） | Cr2O3 / Cr2O3 |
| キーワード(4)（和/英） | Pt / Pt |
| キーワード(5)（和/英） | Al2O3 / Al2O3 |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大月 俊平 / Shummpei Otsuki / オオツキ シュンペイ |
| 第1著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 浅田 毅 / Takeshi Asada / アサダ タケシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto / |
| 第4著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2007-11-16 17:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2007-113 |
| 巻番号（vol） | vol.107 |
| 号番号（no） | no.325 |
| ページ範囲 | pp.43-48 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2007-11-09 (CPM) |
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