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| 講演名 | 2007-10-17 14:15 高温超伝導ランプエッジ型ジョセフソン接合作製におけるランプ形状の最適化 ○安達成司・五十嵐 覚・樋口清一・若菜裕紀（超電導工学研）・岩田展幸・山本 寛（日大）・田辺圭一（超電導工学研） エレソ技報アーカイブへのリンク：  SCE2007-21 |
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| 抄録 | （和） | 高温超伝導ランプエッジ型ジョセフソン接合を用いた集積化回路作製において必要不可欠な技術である，チップ内に特性ばらつきの少ない接合を多数作製する方法について検討した．接合特性を決定する要因のうち，ばらつきの原因となり得るものとして特にランプ形状の均一性に着目した．ランプの作製はレジストのリフロープロセスを適用したフォトリソグラフィおよびイオン照射によって行なった．イオン照射前のレジスト端部形状が作製されるランプ形状に大きく影響を与えることがわかった．また，レジスト端部形状の違いは，回路パターンの場所による違いによって引き起こされることもわかった．回路パターンに影響されず一様な斜面を形成するための手法を開発した．従来よりも薄いレジスト膜を使用し，一様な斜面を得るのに必要な最小限の時間でリフローを行なうことで，現行プロセスよりも形状の揃ったランプを作製することができた．実際にToggle-Flip-Flop用の回路パターンを用いてその有効性を実証した． |
| （英） | For fabrication of integrated circuits including high-Tc ramp-edge Josephson junctions, the establishment of preparation technique for many junctions with a small spread of properties in a chip is indispensable. It is considered that a difference in the ramp shape induces the spread. We refined a photolithography method for producing ramps having smooth surfaces without a tail structure and similar angles. The use of a thin resist film and the optimization of the resist reflowing parameters were found important to improve the method. We demonstrated fabrication of smooth ramps with a small spread in their angles using a mask pattern for a Toggle-Flip-flop circuit by employing the improved reflowing parameters. | |
| キーワード | （和） | ランプエッジ / ジョセフソン接合 / フォトレジスト / リフロー / 原子間力顕微鏡 / ばらつき / / |
| （英） | Ramp-edge / Josephson junction / Photoresist / Reflow / AFM / Spread / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 107, no. 259, SCE2007-21, pp. 17-21, 2007年10月. | |
| 資料番号 | SCE2007-21 | |
| 発行日 | 2007-10-10 (SCE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | エレソ技報アーカイブへのリンク：SCE2007-21 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SCE |
| 開催期間 | 2007-10-17 - 2007-10-17 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 一般 |
| テーマ（英） | Superconductor electronics |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SCE |
| 会議コード | 2007-10-SCE |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 高温超伝導ランプエッジ型ジョセフソン接合作製におけるランプ形状の最適化 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Optimization in ramp fabrication process for high-Tc ramp-edge Josephson junction |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ランプエッジ / Ramp-edge |
| キーワード(2)（和/英） | ジョセフソン接合 / Josephson junction |
| キーワード(3)（和/英） | フォトレジスト / Photoresist |
| キーワード(4)（和/英） | リフロー / Reflow |
| キーワード(5)（和/英） | 原子間力顕微鏡 / AFM |
| キーワード(6)（和/英） | ばらつき / Spread |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 安達 成司 / Seiji Adachi / アダチ セイジ |
| 第1著者 所属（和/英） | 超電導工学研究所 (略称： 超電導工学研) Superconductivity Research Laboratory (略称： SRL) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 五十嵐 覚 / Kaku Igarashi / イガラシ カク |
| 第2著者 所属（和/英） | 超電導工学研究所 (略称： 超電導工学研) Superconductivity Research Laboratory (略称： SRL) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 樋口 清一 / Kiyokazu Higuchi / ヒグチ キヨカズ |
| 第3著者 所属（和/英） | 超電導工学研究所 (略称： 超電導工学研) Superconductivity Research Laboratory (略称： SRL) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 若菜 裕紀 / Hironori Wakana / ワカナ ヒロノリ |
| 第4著者 所属（和/英） | 超電導工学研究所 (略称： 超電導工学研) Superconductivity Research Laboratory (略称： SRL) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ |
| 第5著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto / ヤマモト ヒロシ |
| 第6著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Nihon Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田辺 圭一 / Keiichi Tanabe / タナベ ケイイチ |
| 第7著者 所属（和/英） | 超電導工学研究所 (略称： 超電導工学研) Superconductivity Research Laboratory (略称： SRL) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2007-10-17 14:15:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SCE |
| 資料番号 | SCE2007-21 |
| 巻番号（vol） | vol.107 |
| 号番号（no） | no.259 |
| ページ範囲 | pp.17-21 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2007-10-10 (SCE) |
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