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講演抄録/キーワード
講演名 2007-06-29 11:35
MOCVD法により作製したGaAs基板上GaInNAs埋め込みInAs量子ドットレーザの1.3μm帯室温連続発振
橋本 玲櫛部光弘江崎瑞仙東芝/東大)・西岡政雄荒川泰彦東大OPE2007-21 LQE2007-22 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2007-21 LQE2007-22
抄録 (和) GaAs基板上の量子ドットレーザは,温度無依存性や高速変調時の波長チャープが小さい等の特徴から,高性能な光通信用1.3μm帯光源として研究が進められている.今回我々は,MOCVD法による量子ドットレーザの作製において,InAs量子ドットの歪み緩和層にGaInNAs層を用いることで発振波長の長波長化を試み,波長1.31μmにおける低しきい値での室温連続発振を達成した. 
(英) Quantum dot laser on GaAs substrates is attractive device for 1.3 μm and 1.55 μm optical fiber communication because of its theoretically predicted properties, such as low threshold current density, high temperature stability and high-frequency modulation. We have developed GaInNAs embedded InAs QD lasers on GaAs substrate grown by MOCVD, and achieved a 1.31 μm room temperature continuous wave lasing operation.
キーワード (和) 量子ドット / レーザ / GaAs基板 / GaInNAs / InAs / 1.3μm / /  
(英) Quantum Dot / Laser / GaAs substrate / GaInNAs / InAs / 1.3μm / /  
文献情報 信学技報, vol. 107, no. 125, LQE2007-22, pp. 23-28, 2007年6月.
資料番号 LQE2007-22 
発行日 2007-06-22 (OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OPE2007-21 LQE2007-22 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2007-21 LQE2007-22

研究会情報
研究会 LQE OPE  
開催期間 2007-06-29 - 2007-06-29 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 量子効果デバイス(光信号処理、LD、光増幅、変調等)と集積化技術,及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 LQE 
会議コード 2007-06-LQE-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) MOCVD法により作製したGaAs基板上GaInNAs埋め込みInAs量子ドットレーザの1.3μm帯室温連続発振 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Room-temperature continuous wave operation of 1.3 μm InAs quantum dot lasers with GaInNAs embedded layer on GaAs substrate grown by MOCVD 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 量子ドット / Quantum Dot  
キーワード(2)(和/英) レーザ / Laser  
キーワード(3)(和/英) GaAs基板 / GaAs substrate  
キーワード(4)(和/英) GaInNAs / GaInNAs  
キーワード(5)(和/英) InAs / InAs  
キーワード(6)(和/英) 1.3μm / 1.3μm  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 橋本 玲 / Rei Hashimoto / ハシモト レイ
第1著者 所属(和/英) 東芝 研究開発センター/東京大学 (略称: 東芝/東大)
Corporate R&D Center, Toshiba Corporation (略称: Toshiba RDC)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 櫛部 光弘 / Mitsuhiro Kushibe / クシベ ミツヒロ
第2著者 所属(和/英) 東芝 研究開発センター/東京大学 (略称: 東芝/東大)
Corporate R&D Center, Toshiba Corporation (略称: Toshiba RDC)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 江崎 瑞仙 / Mizunori Ezaki / エザキ ミズノリ
第3著者 所属(和/英) 東芝 研究開発センター/東京大学 (略称: 東芝/東大)
Corporate R&D Center, Toshiba Corporation (略称: Toshiba RDC)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 西岡 政雄 / Masao Nishioka / ニシオカ マサオ
第4著者 所属(和/英) 東京大学ナノエレクトロニクス連携研究センター (略称: 東大)
Nanoelectronics Collaborative Research Center (略称: NCRC)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 荒川 泰彦 / Yasuhiko Arakawa / アラカワ ヤスヒコ
第5著者 所属(和/英) 東京大学ナノエレクトロニクス連携研究センター (略称: 東大)
Nanoelectronics Collaborative Research Center (略称: NCRC)
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講演者 第1著者 
発表日時 2007-06-29 11:35:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 LQE 
資料番号 OPE2007-21, LQE2007-22 
巻番号(vol) vol.107 
号番号(no) no.124(OPE), no.125(LQE) 
ページ範囲 pp.23-28 
ページ数
発行日 2007-06-22 (OPE, LQE) 


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