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講演抄録/キーワード
講演名 2007-02-02 09:50
ハーフメタル系ホイスラー合金Co2Cr0.6Fe0.4Al薄膜とMgOトンネル障壁を用いたエピタキシャル強磁性トンネル接合の製作とトンネル磁気抵抗特性
丸亀孝生石川貴之松田健一植村哲也山本眞史北大エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2006-249 SDM2006-237
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 106, no. 520, ED2006-249, pp. 51-56, 2007年2月.
資料番号 ED2006-249 
発行日 2007-01-25 (ED, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2006-249 SDM2006-237

研究会情報
研究会 SDM ED  
開催期間 2007-02-01 - 2007-02-02 
開催地(和) 北海道大学 百年記念会館 
開催地(英)  
テーマ(和) 量子効果デバイス及び関連技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2007-02-ED-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ハーフメタル系ホイスラー合金Co2Cr0.6Fe0.4Al薄膜とMgOトンネル障壁を用いたエピタキシャル強磁性トンネル接合の製作とトンネル磁気抵抗特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of epitaxial magnetic tunnel junctions with a Heusler alloy Co2Cr0.6Fe0.4Al thin film and a MgO tunnel barrier and their tunnel magnetoresistance characteristics 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 丸亀 孝生 / Takao Marukame / マルカメ タカオ
第1著者 所属(和/英) 北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido Univ. (略称: Hokkaido Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 石川 貴之 / Takayuki Ishikawa / イシカワ タカユキ
第2著者 所属(和/英) 北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido Univ. (略称: Hokkaido Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 松田 健一 / Kenichi Matsuda / マツダ ケンイチ
第3著者 所属(和/英) 北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido Univ. (略称: Hokkaido Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 植村 哲也 / Tetsuya Uemura / ウエムラ テツヤ
第4著者 所属(和/英) 北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido Univ. (略称: Hokkaido Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 眞史 / Masafumi Yamamoto / ヤマモト マサユキ
第5著者 所属(和/英) 北海道大学 (略称: 北大)
Hokkaido Univ. (略称: Hokkaido Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2007-02-02 09:50:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2006-249, SDM2006-237 
巻番号(vol) vol.106 
号番号(no) no.520(ED), no.521(SDM) 
ページ範囲 pp.51-56 
ページ数
発行日 2007-01-25 (ED, SDM) 


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