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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2007-01-29 10:45 ホログラフィック2光子造形法によるフォトレジストを用いた3次元構造の作製 ○高橋秀知・西谷麻希・早崎芳夫（徳島大）  PN2006-50 OPE2006-132 LQE2006-121 エレソ技報アーカイブへのリンク：OPE2006-132 LQE2006-121 |
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| 抄録 | （和） | ホログラフィック２光子造形法は，空間光変調素子上に表示した計算機ホログラムによりフェムト秒レーザーパルスを空間的に分割して，光感光性材料内部に照射し，高スループットで３次元構造を形成する手法である．計算機ホログラムによって形成されるパターンは，空間光変調素子により切替え表示されるため，任意のマイクロ構造を高速に作製可能である．本報告では，フォトレジストを用いて，ホログラフィックな並列照射と自動ステージによる材料の移動を組み合わせることにより，光導波路のような線状構造や３次元構造の作製について述べる． |
| （英） | Holographic two-photon microfabrication method performs high-speed parallel processing inside photoresist using a computer-generated hologram displayed on the liquid crystal spatial light modulator. Switching of the computer -generated hologram performs arbitrary and variable parallel processing. We demonstrate the microfabrication with a linear structure and a three-dimensional fabrication using a combination the holographic parallel irradiation with the lateral translation of sample stage. | |
| キーワード | （和） | 空間光変調素子 / フェムト秒パルスレーザー / 計算機ホログラム / フォトレジスト / / / / |
| （英） | Liquid crystal spatial light modulator / Femtosecond pulse laser / Computer-generated hologram / Photoresist / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 106, no. 515, LQE2006-121, pp. 19-24, 2007年1月. | |
| 資料番号 | LQE2006-121 | |
| 発行日 | 2007-01-22 (PN, OPE, LQE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | PN2006-50 OPE2006-132 LQE2006-121 エレソ技報アーカイブへのリンク：OPE2006-132 LQE2006-121 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OPE EMT LQE PN |
| 開催期間 | 2007-01-29 - 2007-01-30 |
| 開催地（和） | 阪大コンベンションセンター |
| 開催地（英） | Osaka Univ. Convention Center |
| テーマ（和） | フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶・ファイバとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、一般 |
| テーマ（英） | Photonic integrated circuits and devices, swtiching, PLC, fiber devices, waveguide analysis, and others |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | LQE |
| 会議コード | 2007-01-OPE-EMT-LQE-PN |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ホログラフィック2光子造形法によるフォトレジストを用いた3次元構造の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Three-dimensional fabrication of photoresist using holographic two-photon microfabrication |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 空間光変調素子 / Liquid crystal spatial light modulator |
| キーワード(2)（和/英） | フェムト秒パルスレーザー / Femtosecond pulse laser |
| キーワード(3)（和/英） | 計算機ホログラム / Computer-generated hologram |
| キーワード(4)（和/英） | フォトレジスト / Photoresist |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高橋 秀知 / Hidetomo Takahashi / タカハシ ヒデトモ |
| 第1著者 所属（和/英） | 徳島大学 (略称： 徳島大) Tokushima University (略称： Tokushima Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西谷 麻希 / Maki Nishitani / ニシタニ マキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 徳島大学 (略称： 徳島大) Tokushima University (略称： Tokushima Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 早崎 芳夫 / Yoshio Hayasaki / ハヤサキ ヨシオ |
| 第3著者 所属（和/英） | 徳島大学 (略称： 徳島大) Tokushima University (略称： Tokushima Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2007-01-29 10:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | LQE |
| 資料番号 | PN2006-50, OPE2006-132, LQE2006-121 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | no.513(PN), no.514(OPE), no.515(LQE) |
| ページ範囲 | pp.19-24 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2007-01-22 (PN, OPE, LQE) |
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