講演抄録/キーワード |
講演名 |
2007-01-19 14:50
ホール注入型低オン抵抗ノーマリオフAlGaN/GaNトランジスタ ○上本康裕・引田正洋・上野弘明・松尾尚慶・石田秀俊・柳原 学・上田哲三・田中 毅・上田大助(松下電器) エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2006-235 MW2006-188 |
抄録 |
(和) |
我々は今回、従来の方法では実現困難であったノーマリオフ化と低オン抵抗化の両立を実現する為に、ホール注入による伝導度変調を用いた新しい原理に基づいて動作するGaNパワートランジスタ(Gate Injection Transistor : GIT)を開発した。GITはAlGaN/GaN FETのゲート部に形成したp型ゲートによりゲート直下のチャネル部の電位を持ち上げて電子を枯渇させ、ノーマリオフ特性を実現する。さらに、p型ゲートからチャネル部へホール注入させることにより、チャネル部の伝導度を変調させてチャネル抵抗を低減させる。これによりノーマリオフにもかかわらず低オン抵抗なGaNトランジスタの実現が可能となった。作製したGITはしきい値が+1Vと良好なノーマリオフ特性を示し、最大ドレイン電流が200mA/mm、オン抵抗および耐圧はそれぞれ2.6mΩcm2、640Vと、これまでに報告されたノーマリオフ型GaNトランジスタの中で最も優れた値を得ることができた。 |
(英) |
We report a normally-off GaN-based transistor using conductivity modulation, which we call GIT (Gate Injection Transistor). This new device principle utilizes hole-injection from p-AlGaN to AlGaN/GaN hetero-junction, which increases electron density in the depleted channel resulting in dramatic increase of the drain current owing to the conductivity modulation. The fabricated GIT exhibits the threshold voltage of 1.0V with high maximum drain current of 200mA/mm. The obtained on-state resistance (Ron•A) and off-state breakdown voltage (BVds) are 2.6m•cm2 and 640V, respectively. These values are the best ones ever reported for GaN-based normally-off transistors. |
キーワード |
(和) |
GaN / Si基板 / ホール注入 / 伝導度変調 / パワーデバイス / 低オン抵抗 / 高耐圧 / ノーマリオフ |
(英) |
GaN / Si substrate / hole injection / conductivity modulation / high power switching device / low on-state resistance / high breakdown voltage / normally-off |
文献情報 |
信学技報, vol. 106, no. 459, ED2006-235, pp. 193-197, 2007年1月. |
資料番号 |
ED2006-235 |
発行日 |
2007-01-10 (ED, MW) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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