研究会情報 |
研究会 |
MW ED |
開催期間 |
2007-01-17 - 2007-01-19 |
開催地(和) |
機械振興会館 |
開催地(英) |
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
テーマ(和) |
超高速・超高周波デバイスおよびIC/一般 |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
MW |
会議コード |
2007-01-MW-ED |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
FDTDシミュレーション技術を用いた材料測定法に関する検討 |
サブタイトル(和) |
ミリ波帯金属表皮抵抗と半導体ウェハを含む誘電体板の測定 |
タイトル(英) |
A study on material measurement methods using FDTD simulation techniques |
サブタイトル(英) |
Measurements of surface resistance of metals and dielectric plates including semiconductor wafer in millimeter-wave range |
キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
飯田 幸雄 / Yukio Iida / イイダ ユキオ |
第1著者 所属(和/英) |
関西大学 (略称: 関西大)
Kansai University (略称: Kansai Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
中尾 公一 / Koichi Nakao / ナカオ コウイチ |
第2著者 所属(和/英) |
関西大学 (略称: 関西大)
Kansai University (略称: Kansai Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
大村 泰久 / Yasuhisa Omura / オオムラ ヤスヒサ |
第3著者 所属(和/英) |
関西大学 (略称: 関西大)
Kansai University (略称: Kansai Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
田村 進 / Susumu Tamura / タムラ ススム |
第4著者 所属(和/英) |
関西大学 (略称: 関西大)
Kansai University (略称: Kansai Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 所属(和/英) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2007-01-18 14:50:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
MW |
資料番号 |
ED2006-221, MW2006-174 |
巻番号(vol) |
vol.106 |
号番号(no) |
no.459(ED), no.460(MW) |
ページ範囲 |
pp.115-120 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2007-01-10 (ED, MW) |