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講演抄録/キーワード
講演名
2006-12-08 15:25
活性層分離型DRレーザの低しきい値電流動作と高分離抵抗電界吸収変調領域の集積
○
サイドマムド ウラ
・
末光 涼
・
李 承勲
・
大武誠人
・
西山伸彦
(
東工大
)・
荒井滋久
(
東工大/JST
)
エレソ技報アーカイブへのリンク:
LQE2006-114
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 106, no. 404, LQE2006-114, pp. 61-65, 2006年12月.
資料番号
LQE2006-114
発行日
2006-12-01 (LQE)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
エレソ技報アーカイブへのリンク:
LQE2006-114
研究会情報
研究会
LQE
開催期間
2006-12-08 - 2006-12-08
開催地(和)
機械振興会館
開催地(英)
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg.
テーマ(和)
半導体レーザ関連技術、及び一般
テーマ(英)
Semiconductor Lasers and Related Technologies
講演論文情報の詳細
申込み研究会
LQE
会議コード
2006-12-LQE
本文の言語
英語(日本語タイトルあり)
タイトル(和)
活性層分離型DRレーザの低しきい値電流動作と高分離抵抗電界吸収変調領域の集積
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Low Threshold Current DR Laser with Wirelike Active Regions and Integration of EAM with High Electrical Isolation
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
/
第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
サイドマムド ウラ
/
Saeed Mahmud Ullah
/
サイドマムド ウラ
第1著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Inst. of Tech
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
末光 涼
/
Ryo Suemitsu
/
スエミツ リョウ
第2著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Inst. of Tech
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
李 承勲
/
SeungHun Lee
/
イー スンフン
第3著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Inst. of Tech
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
大武 誠人
/
Masato Otake
/
オオタケ マサト
第4著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Inst. of Tech
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
西山 伸彦
/
Nobuhiko Nishiyama
/
ニシヤマ ノブヒ
第5著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Inst. of Tech
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
荒井 滋久
/
Shigehisa Arai
/
アライ シゲヒサ
第6著者 所属(和/英)
東京工業大学/JST
(略称:
東工大/JST
)
Tokyo Institute of Technology/JST
(略称:
Tokyo Inst. of Tech/JST
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第8著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
(略称: )
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2006-12-08 15:25:00
発表時間
25分
申込先研究会
LQE
資料番号
LQE2006-114
巻番号(vol)
vol.106
号番号(no)
no.404
ページ範囲
pp.61-65
ページ数
5
発行日
2006-12-01 (LQE)
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