研究会情報 |
研究会 |
CPM |
開催期間 |
2006-11-09 - 2006-11-10 |
開催地(和) |
金沢大学 |
開催地(英) |
Kanazawa Univ. |
テーマ(和) |
薄膜プロセス・材料、一般 |
テーマ(英) |
Process of Thin Film formation and Materials, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2006-11-CPM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
制限反応スパッタ法によるZrO2薄膜作製における成長遅れ時間 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Growth delay time on fabricating thin ZrO2 film by limited reaction sputtering |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
杉山 英孝 / Hidetaka Sugiyama / スギヤマ ヒデタカ |
第1著者 所属(和/英) |
金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小島 述央 / Nobuo Kojima / コジマ ノブオ |
第2著者 所属(和/英) |
金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
山岸 大朗 / Taro Yamagishi / ヤマギシ タロウ |
第3著者 所属(和/英) |
金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
周 英 / Zhou Ying / Zhou Ying |
第4著者 所属(和/英) |
金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
佐々木 公洋 / Kimihiro Sasaki / ササキ キミヒロ |
第5著者 所属(和/英) |
金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 所属(和/英) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 所属(和/英) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 所属(和/英) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 所属(和/英) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 所属(和/英) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 所属(和/英) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 所属(和/英) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 所属(和/英) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 所属(和/英) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 所属(和/英) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 所属(和/英) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 所属(和/英) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 所属(和/英) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 所属(和/英) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2006-11-10 10:50:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
CPM2006-126 |
巻番号(vol) |
vol.106 |
号番号(no) |
no.336 |
ページ範囲 |
pp.75-79 |
ページ数 |
5 |
発行日 |
2006-11-02 (CPM) |