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講演抄録/キーワード
講演名 2006-11-10 10:50
制限反応スパッタ法によるZrO2薄膜作製における成長遅れ時間
杉山英孝小島述央山岸大朗周 英佐々木公洋金沢大エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2006-126
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 106, no. 336, CPM2006-126, pp. 75-79, 2006年11月.
資料番号 CPM2006-126 
発行日 2006-11-02 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2006-126

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2006-11-09 - 2006-11-10 
開催地(和) 金沢大学 
開催地(英) Kanazawa Univ. 
テーマ(和) 薄膜プロセス・材料、一般 
テーマ(英) Process of Thin Film formation and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2006-11-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 制限反応スパッタ法によるZrO2薄膜作製における成長遅れ時間 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Growth delay time on fabricating thin ZrO2 film by limited reaction sputtering 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 杉山 英孝 / Hidetaka Sugiyama / スギヤマ ヒデタカ
第1著者 所属(和/英) 金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 小島 述央 / Nobuo Kojima / コジマ ノブオ
第2著者 所属(和/英) 金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 山岸 大朗 / Taro Yamagishi / ヤマギシ タロウ
第3著者 所属(和/英) 金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 周 英 / Zhou Ying / Zhou Ying
第4著者 所属(和/英) 金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐々木 公洋 / Kimihiro Sasaki / ササキ キミヒロ
第5著者 所属(和/英) 金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2006-11-10 10:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2006-126 
巻番号(vol) vol.106 
号番号(no) no.336 
ページ範囲 pp.75-79 
ページ数
発行日 2006-11-02 (CPM) 


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