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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2006-08-08 11:25 対向ターゲットマグネトロンスパッタ法による大面積SmBa2Cu3O7-δ薄膜の作製に関する研究 ○高橋幸也・武蔵慎吾・木村 豊・菊地新司・道上 修（岩手大） エレソ技報アーカイブへのリンク：  CPM2006-52 |
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| 抄録 | （和） | 対向ターゲットマグネトロンスパッタ法（MSFT法）により作製した酸化物超伝導薄膜SmBa2Cu3O7-δ(SBCO)の大型化について報告する。作製にはR-Al2O3\CeO2基板を用い、Ar+O2雰囲気中でターゲット間距離(Dtt)を変化させSBCOを堆積させる。ターゲット間距離と超伝導特性に影響を持つプラズマの状態は関係すると考えられ、膜厚分布、結晶性、超伝導特性を測定することによって大型の高品質膜を作製するにはDttと基板の高さ(Ht-s)が非常に重要であることが分かった。 |
| （英） | We report a large-area deposition system for SmBa2Cu3O7-δ(SBCO) thin films by Magnetron Sputtering with Facing Targets(MSFT). SBCO films were deposited on R-Al2O3\CeO2 substrates in flowing Ar+O2 gas with various distance between two targets. We consider this distance is related to the condition of plasma which have an effect on superconducting properties. We found it is important to optimize Dtt and Ht-s in order to produce large-sized SBCO thin films with high quality by measuring thickness distribution of films, crystallinity, and superconducting properties. | |
| キーワード | （和） | 対向ターゲットマグネトロンスパッタ法 / ターゲット間距離 / 膜厚分布 / プラズマ状態 / / / / |
| （英） | Magnetron Sputtering with Facing Targets / Distance between Facing Targets / Thickness Distribution of Films / The Condition of Plasma / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 106, no. 203, CPM2006-52, pp. 63-67, 2006年8月. | |
| 資料番号 | CPM2006-52 | |
| 発行日 | 2006-07-31 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2006-52 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2006-08-07 - 2006-08-08 |
| 開催地（和） | 岩手大学 |
| 開催地（英） | Iwate Univ. |
| テーマ（和） | 電子部品・材料，一般 |
| テーマ（英） | Electronic Component Parts and Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2006-08-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 対向ターゲットマグネトロンスパッタ法による大面積SmBa2Cu3O7-δ薄膜の作製に関する研究 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Deposition of Large-area SmBa2Cu3O7-δ films by Magnetron Sputtering with Facing Targets |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 対向ターゲットマグネトロンスパッタ法 / Magnetron Sputtering with Facing Targets |
| キーワード(2)（和/英） | ターゲット間距離 / Distance between Facing Targets |
| キーワード(3)（和/英） | 膜厚分布 / Thickness Distribution of Films |
| キーワード(4)（和/英） | プラズマ状態 / The Condition of Plasma |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高橋 幸也 / Koya Takahashi / タカハシ コウヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 岩手大学 (略称： 岩手大) Iwate University (略称： Iwate Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 武蔵 慎吾 / Shingo Musashi / ムサシ シンゴ |
| 第2著者 所属（和/英） | 岩手大学 (略称： 岩手大) Iwate University (略称： Iwate Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 木村 豊 / Yutaka Kimura / キムラ ユタカ |
| 第3著者 所属（和/英） | 岩手大学 (略称： 岩手大) Iwate University (略称： Iwate Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 菊地 新司 / Shinji Kikuchi / キクチ シンジ |
| 第4著者 所属（和/英） | 岩手大学 (略称： 岩手大) Iwate University (略称： Iwate Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 道上 修 / Osamu Michikami / ミチカミ オサム |
| 第5著者 所属（和/英） | 岩手大学 (略称： 岩手大) Iwate University (略称： Iwate Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2006-08-08 11:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2006-52 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | no.203 |
| ページ範囲 | pp.63-67 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2006-07-31 (CPM) |
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