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講演抄録/キーワード
講演名 2006-08-07 15:50
プラズマアシスト電子ビーム蒸着法によるTiO2薄膜の高速成膜
星 陽一川口茂利神谷 攻東京工芸大)・清水英彦新潟大エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2006-45
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 106, no. 203, CPM2006-45, pp. 25-29, 2006年8月.
資料番号 CPM2006-45 
発行日 2006-07-31 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2006-45

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2006-08-07 - 2006-08-08 
開催地(和) 岩手大学 
開催地(英) Iwate Univ. 
テーマ(和) 電子部品・材料,一般 
テーマ(英) Electronic Component Parts and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2006-08-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) プラズマアシスト電子ビーム蒸着法によるTiO2薄膜の高速成膜 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) High Rate deposition of TiO2 thin films by plasma assisted electron beam evaporation 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨプイチ
第1著者 所属(和/英) 東京工芸大学 (略称: 東京工芸大)
Tokyo Polytechnic University (略称: Tokyo Polytechnic Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 川口 茂利 / Shigetoshi Kawaguchi / カワグチ シゲトシ
第2著者 所属(和/英) 東京工芸大学 (略称: 東京工芸大)
Tokyo Polytechnic University (略称: Tokyo Polytechnic Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 神谷 攻 / Osamu Kamiya / カミヤ オサム
第3著者 所属(和/英) 東京工芸大学 (略称: 東京工芸大)
Tokyo Polytechnic University (略称: Tokyo Polytechnic Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ
第4著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2006-08-07 15:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2006-45 
巻番号(vol) vol.106 
号番号(no) no.203 
ページ範囲 pp.25-29 
ページ数
発行日 2006-07-31 (CPM) 


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