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講演抄録/キーワード
講演名
2006-01-27 09:50
ナノ領域成長を用いたSi(100)基板上弗化物系共鳴トンネルダイオード
○
金澤 徹
・
諸澤篤史
・
藤井 諒
・
和田宇史
(
東工大
)・
渡辺正裕
(
東工大/JST
)・
浅田雅洋
(
東工大
)
エレソ技報アーカイブへのリンク:
ED2005-233
SDM2005-245
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 105, no. 550, ED2005-233, pp. 11-14, 2006年1月.
資料番号
ED2005-233
発行日
2006-01-20 (ED, SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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ED2005-233
SDM2005-245
研究会情報
研究会
ED SDM
開催期間
2006-01-26 - 2006-01-27
開催地(和)
北海道大学 百年記念会館 大会議室
開催地(英)
Hokkaido Univ.
テーマ(和)
量子効果デバイス及び関連技術
テーマ(英)
-
講演論文情報の詳細
申込み研究会
ED
会議コード
2006-01-ED-SDM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
ナノ領域成長を用いたSi(100)基板上弗化物系共鳴トンネルダイオード
サブタイトル(和)
タイトル(英)
-
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
金澤 徹
/
Toru Kanazawa
/
カナザワ トオル
第1著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology University
(略称:
Tokyo Institute of Technology Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
諸澤 篤史
/
Atsushi Morosawa
/
モロサワ アツシ
第2著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology University
(略称:
Tokyo Institute of Technology Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
藤井 諒
/
Ryo Fujii
/
フジイ リョウ
第3著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology University
(略称:
Tokyo Institute of Technology Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
和田 宇史
/
Takafumi Wada
/
ワダ タカフミ
第4著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology University
(略称:
Tokyo Institute of Technology Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
渡辺 正裕
/
Masahiro Watanabe
/
ワタナベ マサヒロ
第5著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大/JST
)
Tokyo Institute of Technology University
(略称:
Tokyo Institute of Technology Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
浅田 雅洋
/
Masahiro Asada
/
アサダ マサヒロ
第6著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology University
(略称:
Tokyo Institute of Technology Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2006-01-27 09:50:00
発表時間
25分
申込先研究会
ED
資料番号
ED2005-233, SDM2005-245
巻番号(vol)
vol.105
号番号(no)
no.550(ED), no.552(SDM)
ページ範囲
pp.11-14
ページ数
4
発行日
2006-01-20 (ED, SDM)
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