講演抄録/キーワード |
講演名 |
2005-12-22 12:45
触媒金属上に成長したBCNのフィールドエミッション特性 ○木村千春・岡田邦孝(阪大)・岡本幸一・和田 優(舞鶴高専)・青木秀充・杉野 隆(阪大) エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2005-182 |
抄録 |
(和) |
金属上に様々な温度においてBCN薄膜を作製し、BCN薄膜のフィールドエミッション特性を評価した。シリコン基板上のBCN薄膜の成長に比べ、触媒として鉄(Fe)を用いた場合、成長速度の促進が観測された。BCN薄膜の成長温度を変え、表面形状を観察したところ成長温度の低下とともに薄膜表面の粗さは増大した。温度以外の成長条件を同じにしても、成長温度の低下につれてBCN薄膜への炭素の取り込み量は増加した。Feの触媒効果を利用してBCN薄膜をガラス基板上に200℃で堆積させ、フィールドエミッション特性を評価したところ5.1V/μmという閾値での電子放出を実現した。 |
(英) |
Field emission characteristics of the boron carbon nitride (BCN) films deposited on the iron substrate at various temperatures are investigated. The growth rate of BCN films deposited on the iron substrate is higher than that deposited on the Si substrate because iron is a catalyst metal and accelerates the growth of BCN films. The surface roughness and carbon (C) composition ratio are examined by atomic force microscopic (AFM) observation and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) measurement, respectively. The C composition ratio increases with decreasing growth temperature. The surface roughness also increases with decreasing growth temperature. The turn-on electric field as low as 5.1 V/μm is achieved for the BCN film deposited at 200 ℃ on the glass substrate. |
キーワード |
(和) |
ホウ素-炭素-窒素 / フィールドエミッション / 触媒金属 / / / / / |
(英) |
B-C-N / Field emission / Catalytic metal / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 105, no. 498, ED2005-182, pp. 1-6, 2005年12月. |
資料番号 |
ED2005-182 |
発行日 |
2005-12-15 (ED) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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