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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2005-11-12 12:35 低電圧スパッタ法によるYBCO薄膜の作製及び評価 ○岡田好正・清水英彦・森 貴志・岩野春男・川上貴浩（新潟大）・星 陽一（東京工芸大）・丸山武男（新潟大） エレソ技報アーカイブへのリンク：  CPM2005-169 |
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| 抄録 | （和） | 本研究では，プラズマスパッタ法を用いて容易にYBCO薄膜の作製を実現できるようにするための基礎研究として，RF-DC結合型スパッタ法と従来のRFマグネトロンスパッタ法を用いて膜を作製し，比較・検討を行った。その結果，RF-DC結合型スパッタ法と従来のRFマグネトロンスパッタ法のどちらも，スパッタ堆積した膜は，ターゲット組成と比べ，Baのような重い元素は少なく，Yのような軽い元素が多く含まれていた。また，熱処理を行っても，YBCOの結晶化はできず，YBCO結晶とは異なる材料の結晶化しか行うことはできなかった。従って，RF-DC結合型スパッタ法による膜作製条件等をさらに検討する必要があることが分かった。 |
| （英） | In this study, in order to consider the preparation of YB2C3O7 (YBCO) thin films using the plasma sputtering method, deposition of YBCO thin films was tried by RF-DC coupled magnetron sputtering method. As a result, it was observed that the amount of an atom with large mass, such as Ba, decreased in the films and the amount of an atom with small mass, such as Y, increased in the films, compared with composition of a sputtering target. The crystal of YBCO was not able to be obtained in those films however films deposited by RF-DC coupled magnetron sputtering method and conventional magnetron sputtering method were annealed. Therefore, in order to preparation of YBCO films by the RF-DC coupled magnetron sputtering method, the conditions of the experiment by the RF-DC coupled magnetron sputtering method needed to be examined further. | |
| キーワード | （和） | YBCO / RF-DC結合型スパッタ法 / 選択スパッタ / 組成 / 結晶化 / / / |
| （英） | YBCO / RF-DC coupled magnetron sputtering method / preferential sputtering / composition / crystallization / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 105, no. 394, CPM2005-169, pp. 39-42, 2005年11月. | |
| 資料番号 | CPM2005-169 | |
| 発行日 | 2005-11-05 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2005-169 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2005-11-11 - 2005-11-12 |
| 開催地（和） | 福井大学 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料、一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2005-11-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 低電圧スパッタ法によるYBCO薄膜の作製及び評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Examination And Preparation of YBCO Thin Film by Low Voltage Sputtering Method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | YBCO / YBCO |
| キーワード(2)（和/英） | RF-DC結合型スパッタ法 / RF-DC coupled magnetron sputtering method |
| キーワード(3)（和/英） | 選択スパッタ / preferential sputtering |
| キーワード(4)（和/英） | 組成 / composition |
| キーワード(5)（和/英） | 結晶化 / crystallization |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡田 好正 / Yoshimasa Okada / オカダ ヨシマサ |
| 第1著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ |
| 第2著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 森 貴志 / Takasi Mori / モリ タカシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩野 春男 / Haruo Iwano / イワノ ハルオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川上 貴浩 / Takahiro Kawakami / カワカミ タカヒロ |
| 第5著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨウイチ |
| 第6著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnic University (略称： Tokyo Polytechnic Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 丸山 武男 / Takeo Maruyama / マルヤ マタケオ |
| 第7著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2005-11-12 12:35:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2005-169 |
| 巻番号（vol） | vol.105 |
| 号番号（no） | no.394 |
| ページ範囲 | pp.39-42 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2005-11-05 (CPM) |
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