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講演抄録/キーワード
講演名 2005-09-08 09:25
ポリイミド薄膜の10GHz帯誘電特性の測定
瀬川繁昌ピーアイ技研)・伊藤佐千子菊地克弥所 和彦仲川 博青柳昌宏産総研エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2005-86 ICD2005-96
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文献情報 信学技報, vol. 105, no. 265, CPM2005-86, pp. 7-12, 2005年9月.
資料番号 CPM2005-86 
発行日 2005-09-01 (CPM, ICD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2005-86 ICD2005-96

研究会情報
研究会 ICD CPM  
開催期間 2005-09-08 - 2005-09-09 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術、テスト技術 (オーガナイザ: 大塚寛治(明星大学)) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2005-09-ICD-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ポリイミド薄膜の10GHz帯誘電特性の測定 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Characteristic dielectric constant for polyimide thin films at 10GHz 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 瀬川 繁昌 / Shigemasa Segawa / セガワ シゲマサ
第1著者 所属(和/英) (株)ピーアイ技術研究所 (略称: ピーアイ技研)
PI R&D Co.,LTD (略称: PI R&D)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 佐千子 / Sachiko Ito / イトウ サチコ
第2著者 所属(和/英) 独立行政法人 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 菊地 克弥 / Katsuya Kikuchi / キクチ カツヤ
第3著者 所属(和/英) 独立行政法人 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 所 和彦 / Kazuhiko Tokoro / トコロ カズヒコ
第4著者 所属(和/英) 独立行政法人 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 仲川 博 / Hiroshi Nakagawa / ナカガワ ヒロシ
第5著者 所属(和/英) 独立行政法人 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 青柳 昌宏 / Masahiro Aoyagi /
第6著者 所属(和/英) 独立行政法人 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
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講演者
発表日時 2005-09-08 09:25:00 
発表時間 25 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-CPM2005-86,IEICE-ICD2005-96 
巻番号(vol) IEICE-105 
号番号(no) no.265(CPM), no.267(ICD) 
ページ範囲 pp.7-12 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-CPM-2005-09-01,IEICE-ICD-2005-09-01 


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