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講演抄録/キーワード
講演名 2005-03-10 15:15
GHz帯微小磁界プローブにおける近傍電界の影響に関する検討
船戸裕樹中村 聡上坂晃一須賀 卓日立
抄録 (和) 携帯電話などの無線通信機器において、装置内部の無線モジュール周辺とその他デジタル回路部が電磁干渉を起こし、不具合を生じる問題が増加している。これらの問題に対し、電磁干渉経路の可視化を目的として近傍磁界測定技術は必須である。しかし、現在主問題の一つとされているEMI規制超過問題に比べて非常に微弱な電磁界レベルを扱う為、高周波領域での磁界測定精度の向上が望まれる。本報告では、GHz帯の高周波領域において近傍磁界測定時に精度低下要因となる近傍電界の影響を抑制する磁界プローブを作製し、同プローブの近傍電界及び近傍磁界に対する周波数特性に関して集中定数等価回路を用いて定量的な解析を行った。 
(英) For wireless communication devices, such as mobile phone, interference between digital circuit and analog communication module often causes deterioration of performance. Measurement technique of electromagnetic near field is fundamental to visualize interference path. However improvement in the ability to measure with high accuracy is necessary because magnitude of electromagnetic field in these problems is so small rather than the level in EMI regulation excess problems. In this paper, we fabricated magnetic near-field probe with suppression of voltage induced by electric near field for GHz band and frequency characteristics of magnetic and electric near-field sensitivity were investigated quantitatively.
キーワード (和) 不要電磁雑音 / 自己干渉 / 近傍磁界 / 近傍電界 / / / /  
(英) EMI / Near-Field / self-interference / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 104, no. 705, EMCJ2004-158, pp. 67-72, 2005年3月.
資料番号 EMCJ2004-158 
発行日 2005-03-03 (EMCJ) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
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研究会情報
研究会 EMCJ  
開催期間 2005-03-10 - 2005-03-10 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 放送EMC/一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMCJ 
会議コード 2005-03-EMCJ 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) GHz帯微小磁界プローブにおける近傍電界の影響に関する検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A Study on Influence of Electric Near-Field on Magnetic Field Loop Probe for GHz band 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 不要電磁雑音 / EMI  
キーワード(2)(和/英) 自己干渉 / Near-Field  
キーワード(3)(和/英) 近傍磁界 / self-interference  
キーワード(4)(和/英) 近傍電界 /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 船戸 裕樹 / Hiroki Funato / フナト ヒロキ
第1著者 所属(和/英) (株)日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Production Engineering Research Laboratory, Hitachi Ltd. (略称: Hitachi)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 中村 聡 / Satoshi Nakamura / ナカムラ サトシ
第2著者 所属(和/英) (株)日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Production Engineering Research Laboratory, Hitachi Ltd. (略称: Hitachi)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 上坂 晃一 / Kouichi Uesaka / ウエサカ コウイチ
第3著者 所属(和/英) (株)日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Production Engineering Research Laboratory, Hitachi Ltd. (略称: Hitachi)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 須賀 卓 / Takashi Suga / スガ タカシ
第4著者 所属(和/英) (株)日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Production Engineering Research Laboratory, Hitachi Ltd. (略称: Hitachi)
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講演者 第1著者 
発表日時 2005-03-10 15:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 EMCJ 
資料番号 EMCJ2004-158 
巻番号(vol) vol.104 
号番号(no) no.705 
ページ範囲 pp.67-72 
ページ数
発行日 2005-03-03 (EMCJ) 


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