お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2005-01-27 13:30
90nmデバイスのLVP測定容易性評価とLVP測定用素子の開発
野中淳平和田慎一NECエレクトロニクスエレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2004-156 ICD2004-201
抄録 (和) 90nm以降のプロセスでは、トランジスタサイズがLVPで使用されるレーザ波長の回折限界に到達するため、LVP測定が困難になると推測される。そこで、90nmデバイスのLVP測定容易性及び、論理回路素子の入出力パタンとLVP波形の関係について、測定による評価を行った。また、デバイスシミュレーションにより、LVPの波形観測メカニズムの検討を行った。さらに上記の結果を用いて、LVP測定が容易化できる測定用素子構造を提案し、TEG評価を行ったところ、LVP波形の振幅が最大50%程度増大することが確認できた。 
(英) For devices after 90nm generation, LVP measurement will be difficult, because transistor sizes are less than laser diffraction limited. In this study, we evaluated ease of LVP measurement for 90nm devices. We also considered relationship between voltage waveforms and LVP waveforms through LVP measurement and device simulation. For devices after 90nm, inserting on-chip elements for LVP measurement into circuit will ease LVP measurement. We propose a new element structure to ease LVP measurement, and evaluate it. As a result, LVP waveform amplitudes for the elements are 30-50% larger than those for the same size inverters. Ease of LVP measurement is improved by using the proposed structure.
キーワード (和) LVP / ディープサブミクロン / デバイスシミュレーション / 可観測性 / パッド / / /  
(英) LVP / deep submicron / device simulation / observability / pad / / /  
文献情報 信学技報, vol. 104, no. 628, ICD2004-201, pp. 7-12, 2005年1月.
資料番号 ICD2004-201 
発行日 2005-01-20 (CPM, ICD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2004-156 ICD2004-201

研究会情報
研究会 ICD CPM  
開催期間 2005-01-27 - 2005-01-28 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術、テスト実装、一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ICD 
会議コード 2005-01-ICD-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 90nmデバイスのLVP測定容易性評価とLVP測定用素子の開発 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Evaluation of LVP observability in 90nm devices, and development of on-chip elements for LVP measurement 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) LVP / LVP  
キーワード(2)(和/英) ディープサブミクロン / deep submicron  
キーワード(3)(和/英) デバイスシミュレーション / device simulation  
キーワード(4)(和/英) 可観測性 / observability  
キーワード(5)(和/英) パッド / pad  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 野中 淳平 / Junpei Nonaka / ノナカ ジュンペイ
第1著者 所属(和/英) NECエレクトロニクス株式会社 (略称: NECエレクトロニクス)
NEC Electronics Corporation (略称: NEC Electronics)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 和田 慎一 / Shinichi Wada /
第2著者 所属(和/英) NECエレクトロニクス株式会社 (略称: NECエレクトロニクス)
NEC Electronics Corporation (略称: NEC Electronics)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2005-01-27 13:30:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 ICD 
資料番号 CPM2004-156, ICD2004-201 
巻番号(vol) vol.104 
号番号(no) no.626(CPM), no.628(ICD) 
ページ範囲 pp.7-12 
ページ数
発行日 2005-01-20 (CPM, ICD) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会