電子情報通信学会技術研究報告

Print edition: ISSN 0913-5685      Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 119, Number 397

シリコン材料・デバイス

開催日 2020-01-28 / 発行日 2020-01-21

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目次

SDM2019-82
[招待講演]重アンモニアを用いた高信頼性メモリセル絶縁膜の形成
○野口将希・磯貝達典・山下博幸・澤 敬一・藤塚良太・山中孝紀・岡田俊祐・青山知憲・相宗史記・阿部淳子・小川義宏・中川聖士・宮島秀史(キオクシア)
pp. 1 - 4

SDM2019-83
[招待講演]Impact of Homogeneously Dispersed Al Nanoclusters by Si-monolayer Insertion into Hf0.5Zr0.5O2 Film on FeFET Memory Array with Tight Threshold Voltage Distribution
○前川径一(ルネサス)
pp. 5 - 8

SDM2019-84
[招待講演]Hf1-xZrxO2強誘電体トンネル接合を用いた強化学習 ~ ばらつき制御による性能向上 ~
○太田健介・山口まりな(キオクシア)・ラドゥ ベルダン・丸亀孝生・西 義史(東芝)・松尾和展・高橋恒太・神谷優太・宮野信治・出口 淳・藤井章輔・齋藤真澄(キオクシア)
p. 9

SDM2019-85
[招待講演]インメモリ/アナログコンピューティングは深層学習による推論の高効率化の切り札となるか?
○出口 淳・宮下大輔・眞木明香・佐々木慎一・中田憲吾・橘 文彦・藤本竜一(キオクシア)
p. 11

SDM2019-86
[招待講演]3次元フラッシュメモリの高ビット密度を実現する新規半円型ゲート分断構造セル
○諸岡 哲(キオクシア)
pp. 13 - 18

SDM2019-87
[招待講演]Future of Non-Volatile Memory - From Storage to Computing
○石丸一成(キオクシア)
p. 19

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


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