| IEICE Technical Committee Submission System Announcement |
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| Conference Information | |||||||||||||||
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| Announcement | |||||||||||||||
*********************************************************** 電子情報通信学会 １２月 シリコン材料・デバイス(SDM)研究会の開催 と論文募集の御案内 *********************************************************** 拝啓 皆様には、研究開発にご精励のこととご推察申し上げます。 平素より電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会にご関 心とご理解を賜りまして誠に有難うございます。本年は、恒例の 関西地区における研究会を奈良先端科学技術大学院大学にて、 下記の要領で開催することになりました。奮ってご応募を頂きますようご 案内申し上げます。なお、お近くの方にもご回覧下さいますよう お願い致します。 敬具 担当委員 浦岡(奈良先端大)、平野(松下電器)、木本(京都大) 記 1. テーマ：「シリコン関連材料の作製と評価」 （Si、Siを含む材料の作製、プロセス技術、デバイスなど） 2. 開催日：平成２８年１２月１２日(月) （研究会終了後に懇親会を予定） 3. 開催場所：奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 大講義室 http://mswebs.naist.jp/access/index.html 4. 発表申込締切：平成２８年１０月１０日（月） 5. 申込方法： 発表申し込みのWebページ (http://ken.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM) より、発表題目・著者・発表者・所属・論文概要(100文字程度)・ 連絡先等を記入してお申込み下さい。受付後、「技術研究報告」 の執筆を依頼させていただきます。なお、原稿締め切り日は開催 日の約３週間前です。 6．参加要領： ・第一種研究会ですので参加費は無料、予稿集は別売です。 ・事前の参加申込は必要ありません。 7. お問い合わせ先： 奈良先端科学技術大学院大学・物質創成科学研究科 浦岡行治 E-mail:uraoka@ms.naist.jp 〒630-0192 奈良県生駒市高山町8916-5 ＴＥＬ／ＦＡＸ 0743-72-6060 *********************************************************** |
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