IEICE Technical Committee Submission System
Announcement
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 Conference Information
Committee SDM
Date 2019-06-21 - 2019-06-21
Place Nagoya Univ. VBL3F
Deadline 2019-04-14
Topics Material Science and Process Technology for MOS Devices and Memories

 Announcement

SDM 6月度研究会は、「MOSデバイス・メモリ高性能化ー材料・プロセス技術」をテーマに開催いたします。
この研究会は、2002年より応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会、表面・界面・シリコン材料研究委員会が企画する研究集会と合同開催となっており、今年も同様のスタイルで、名古屋大学ベンチャービジネスラボラトリー ベンチャーホール３Fにて、午前・午後の1日研究会として開催いたします。

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The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers (IEICE), Japan