お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 詳細情報
[Japanese] / [English]

 スケジュール情報
研究会 SDM
開催日 2019-06-21 - 2019-06-21
会場 名古屋大学 VBL3F
発表申込締切日 2019-04-14
議題 MOSデバイス・メモリ高性能化-材料・プロセス技術 (応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会との合同開催)

 開催案内

SDM 6月度研究会は、「MOSデバイス・メモリ高性能化ー材料・プロセス技術」をテーマに開催いたします。
この研究会は、2002年より応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会、表面・界面・シリコン材料研究委員会が企画する研究集会と合同開催となっており、今年も同様のスタイルで、名古屋大学ベンチャービジネスラボラトリー ベンチャーホール3Fにて、午前・午後の1日研究会として開催いたします。


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会