IEICE Technical Committee Submission System
Announcement
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 Conference Information
Committee SDM
Date 2017-06-20 - 2017-06-20
Place Campus Innovation Center Tokyo
Deadline 2017-04-17
Topics Material Science and Process Technology for MOS Devices and Memories

 Announcement

SDM 6月度研究会は、「MOSデバイス・メモリ高性能化－材料・プロセス技術」をテーマに開催いたします。この度の研究会は、過去15回の6月度研究会に引き続き、応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会、表面・界面・シリコン材料研究委員会が企画する研究集会と合同開催となります。昨年と同様なスタイルで、会場はキャンパス・イノベーションセンター東京にて、午前・午後の1日研究会として開催いたします。

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The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers (IEICE), Japan