電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 詳細情報

 スケジュール情報
研究会 SDM
開催日 2017-06-20 - 2017-06-20
会場 キャンパス・イノベーションセンター東京 508(AB)
発表申込締切日 2017-04-17
議題 MOSデバイス・メモリ高性能化-材料・プロセス技術 (応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会との合同開催)

 開催案内

SDM 6月度研究会は、「MOSデバイス・メモリ高性能化-材料・プロセス技術」をテーマに開催いたします。この度の研究会は、過去15回の6月度研究会に引き続き、応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会、表面・界面・シリコン材料研究委員会が企画する研究集会と合同開催となります。昨年と同様なスタイルで、会場はキャンパス・イノベーションセンター東京にて、午前・午後の1日研究会として開催いたします。


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