No |
115091 |
標題(和) |
a-C:H膜における光照射効果のXPSによる評価 |
標題(英) |
Study of light irradiation effect of a-C:H films by XPS |
研究会名(和) |
電子部品・材料 |
研究会名(英) |
Component Parts and Materials |
開催年月日 |
1999-10-15 |
終了年月日 |
1999-10-15 |
会議種別コード |
2 |
共催団体名(和) |
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資料番号 |
CPM99-100 |
抄録(和) |
プロパンガスを原料としてRFグロー放電法により作製されたアモルファス水素化炭素(a-C:H)膜に空気中で紫外光照射処理をほどこすと、発光強度の減少、光学吸収端の高エネルギー側への移動、膜厚の減少を引き起こす。光照射によるa-C:H膜構造の変化を、光電子分光法(XPS)で評価した。光照射は、空気中および真空中で行った。その結果、酸素が膜内に取り込まれ、この酸素は、炭素と水素と複雑に結びつき、膜をより複雑な構造に変化させている。膜内に取り込まれた酸素は、空気中にある酸素と水分であると考えられる。また、光照射による光学吸収端の移動量と膜内に取り込まれた酸素量に対応があることを示唆する結果が得られた。 |
抄録(英) |
After of irradiation by ultra-violet (UV) light in the air, hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) films prepared by the RF glow discharge decomposition, the films exhibit change of characteristics as compared with before irradiation, for example, photoluminescence fatigue, shift of absorption edge toward higher energy, and so on. Effect of UV irradiation is studied by X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS). The XPS results show that oxygen is taken into a-C:H films and The oxygen changed a-C:H film and a polymer like structure is formed. Source of oxygen is considered to be from oxygen and moisture in atmosphere. By irradiation effect the amount of absorption edge shift is suggested to correspond to increasing amount of oxygen. |
収録資料名(和) |
電子情報通信学会技術研究報告 |
収録資料の巻号 |
Vol.99 No.361 |
ページ開始 |
83 |
ページ終了 |
88 |
キーワード(和) |
XPS |
キーワード(英) |
XPS |
本文の言語 |
JPN |
著者(和) |
打木久雄 |
著者(ヨミ) |
ウチキヒサオ |
著者(英) |
Uchiki Hisao |
所属機関(和) |
長岡技術科学大学 |
所属機関(英) |
Nagaoka University of Technology |
著者(和) |
原田考人 |
著者(ヨミ) |
ハラダノリヒト |
著者(英) |
Harada Norihito |
所属機関(和) |
長岡技術科学大学 |
所属機関(英) |
Nagaoka University of Technology |