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「不揮発メモリと関連技術および一般」
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【開催日】　　2008年3月14日(金)

【開催場所】　機械振興会館　6階　65号会議室
　　　　 〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
　　 交通：地下鉄日比谷線神谷町駅下車 徒歩6分
　　　　 詳細は，下記ホームページをご覧下さい。
　　　　 http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm

【論文申込締切】　2008年１月21日(月)

【論文原稿締切】　開催日の約３週間前(原稿執筆依頼送付時に通知）

【論文頁数】 研究会原稿用紙A4版6ページ以内

【申込方法】　以下のWebサイトにおいて、
　　　　　 http://www.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM
「研究会発表申込システム（登録のページ）」をクリックし、
リストアップされる研究会スケジュールにおいて本研究会の欄へ進み、
右端に表示されている「発表申込受付中」を選択後、
必要事項の入力をお願いいたします。

【応募・問い合わせ】
SDM 3月研究会幹事
　 大野　守史 (沖電気工業��)
　TEL：042-662-6018，FAX：042-667-8367
　　 E-mail： ohno565 @ oki.com
　 三木 浩史（日立製作所中央研究所）
　　 TEL:042-323-1111 ex.3307
E-mail：hiroshi.miki.tq @ hitachi.com
　 羽路　伸夫（横浜国立大学　大学院工学研究院）
　　 TEL：045-339-4235
　　 E-mail：nob @ ynu.ac.jp

【参加要領】
第一種研究会ですので参加費は無料、予稿集は別売です。
事前の参加申込は必要ありません。

※シリコン材料・デバイス研究専門委員会では、研究会に投稿された
論文の中から特に優秀でオリジナリティのある論文を電子情報通信学会
和文論文誌に正論文として推薦することができます。
　 研究会に投稿した論文をそのまま、あるいは若干の改訂を加えて和文
論文誌に投稿でき、査読を通った通常の論文として発表できることになります。
　 和文論文誌への推薦を希望される方は、講演申し込み時に、
申し込みフォーマットの最後の欄の「和文論文誌への推薦の希望」に”有”
とご記入下さい。候補論文としてノミネートさせていただき、専門委員会で
審議させて頂きます。
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以上、奮ってご発表、ご参加いただけますよう、お願い申し上げます。