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平成21年6月度SDM研究会
SDM研究会開催のご案内
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★シリコン材料・デバイス研究会（SDM）
専門委員長：渡辺 重佳
副委員長：杉井 寿博
幹事：安斎 久浩・遠藤 哲郎
幹事補佐：大西 克典

★共催：応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 表面・界面・シリコン材料研究委員会
委員長：廣瀬 和之
幹事：影島 愽之・野平 博司・藤岡 洋

下記要領にて、6月度SDM研究会を開催いたします。

■テーマ
「ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術」
（応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会、第113研究集会「ゲートスタック研究の進展-Ge系材料を中心に」との合同開催）

■日程
2009年 6月19日(金)　09:30 - 18:05

■会場
東京大学 駒場リサーチキャンパス生産技術研究所 An棟中セミナー室 （An401・402）

■開催プログラム
https://www.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM