| 開催日 | テーマ | 研究会報告 | 開催地 | 担当委員（サブ）敬称略 | 共催 | 投稿〆切 |
| 2006年 | ||||||
| 4月17-18日 | 薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術 | 福岡 | 浅野 |
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| 5月18-19日 | 結晶成長，評価技術及びデバイス（化合物、Si，SiGe，その他電子材料 | 豊橋技科大 | 若原 | ED/SDM/CPM |
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| 6月21-22日 | ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術 | 広島大学 | 宮崎 羽路 松井 |
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| 7月3-5日 | 「先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ」 2006 Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Application of Advanced Semiconductor Devices |
東北大学 |
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| 8月17-18日 | VLSI回路、デバイス技術(高速、低電圧、低消費電力) | 北海道大学 | 川中 | ICD |
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| 9月25-26日 | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 | 機械振興会館 | VLD,応物 | 終了 | ||
| 10月5-6日 | プロセスクリーン化と新プロセス技術 | 東北大学 | 寺本 | 終了 | ||
| 11月24日 | 半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性 | 中央電気倶楽部 |
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| 12月14日 | シリコン関連材料の作製と評価 | 京都大学 | 冬木、平野、木本 |
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| 2007年 | ||||||
| 2007年1月26日 | IEDM特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術） | 機械振興会館 | 終了 | |||
| 2007年2月1日-2日 | 量子効果デバイス及び関連技術 | 北大 | 終了 | |||
| 2007年3月15日 | 不揮発性メモリおよび関連プロセス一般 | 機械振興会館 | 羽路、
松井、
大野 |
終了 | ||
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