| 開催日 | テーマ | 研究会報告 | 開催地 | 担当委員（サブ）敬称略 | 共催 | 投稿〆切 |
| 2005年 | ||||||
| 4月21-22日 | 有機EL 、電子デバイス&有機エレクトロニクス& シリコン材料・デバイス一般 |
九州工業大学 | 浅野 宮尾 野口 |
ED,OME |
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| 5月26-27日 | 結晶成長，評価技術及びデバイス（化合物，Si，SiGe，その他電子材料 | 三重大学 | 若原 木本 佐々木 |
ED,CPM |
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| 6月9-10日 | ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術 ※合同開催： 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 第70回研究集会「ゲート絶縁膜の現状と課題 -誘電率と界面-」 |
広島大学 | 宮崎 羽路 西岡 |
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| 6月28-30日 | AWAD2005「先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ」 会議案内 Advanced Program |
韓国 | 浅野 | ED、大韓電子工業会 |
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| 8月 | VLSI回路、デバイス技術(高速、低電圧、低電力） | 北見工大 | 高柳 松田 平本 |
ICD |
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| 9月 | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 | 東京 | 安斎 松本 国清 |
VLD,モデリング研究委 |
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| 10月6日-7日 | プロセスクリーン化と新プロセス技術 | 東北大 | 寺本 大見 大野 |
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| 11月25日 | 電子デバイスの信頼性と半導体表面・界面制御・評価 | 大阪・中央電気倶楽部 | 松尾 大野 |
ED、信頼性研究会 |
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| 12月21日 | シリコン関連材料の作製と評価 | 奈良先端科技大 | 木本 冬木 小池 |
10/14 | ||
| 2006年 | ||||||
| 1月20日 | 「IEDM特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術）」 | 東京 | 高橋 杉井 小野 |
終了 | ||
| 1月26-27日 | 量子効果デバイスおよび関連技術 | 北大 | 西岡 | 終了 | ||
| 2月6日 | 低誘電率層間膜，配線材料および一般 | 東京 | 青木 麻多 実沢 |
終了 | ||
| 3月14日 | 新型不揮発性メモリ | 東京 | 大野 松井 羽路 |
終了 | ||
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