日時：　平成17年5月20日（金）　13:00〜17:00

会場：　（株）豊田中央研究所  （愛知県愛知郡長久手町長湫横道41-1 ）

参加資格： 特に問わず

参加費： 会場でお支払いください（会員3,000円、非会員5,000円、学生会員1,000円、学生非会員2,000円）

参加申込： 当日参加可ですが、極力事前に下記問合せ先までご連絡いただきますようお願いします(氏名、所属、住所、TEL、EMAIL、電子情報通信学会会員種別をお知らせ下さい）。

■テーマ： −ナノインプリントと光回路への応用−

本研究会は、ポリマー光回路の実用化に向けて研究開発を促進させることを目的とし、また、研究者間の継続的・有機的交流の場、異分野間での連携の環境を整備する場として、「エレクトロニクスソサイエティ」の中に「ポリマー光回路時限研究専門委員会」として平成16年４月に設置されました。 今回は次世代電子デバイスの量産技術として期待の大きい『ナノインプリント技術』に着目し、パターン形成能力やメカニズムといった基礎特性や展望を学ぶとともに、電子回路や光回路への応用展開、実用化に向けたプロセス最適化技術といった最先端のトピックスを第一線でご活躍の先生方にお願いしました。

■プログラム

１．松井 真二　氏（兵庫県立大学）

２．廣島 洋　氏（産総研）

３．平井義彦 氏（大阪府立大）

４．染谷隆夫 氏、桜井貴康 氏、関谷毅 氏、川口博 　氏（東大）

５．岡本尚道 氏、冨木政宏氏（静岡大学）

６．関口 淳 氏（リソテックジャパン）