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講演抄録/キーワード
講演名 2018-02-28 14:20
高位合成における多重ループに対するパイプライン処理時のサイクル数オーバーヘッド削減を行うループ平坦化ツールの開発
石川大輔瀬戸謙修東京都市大VLD2017-97
抄録 (和) 高位合成を用いてハードウェア設計を行う際の、多重ループに対するループ平坦化ツールの開発について提案する。多重forループを含んだ例題に対して最内ループのパイプライン処理を施した場合、サイクル数オーバーヘッドが発生する。ループ平坦化はこのオーバーヘッドを削減する方法の一つである。既存のループ平坦化手法は、様々な例題に対して最適なものを選択して人手で適用する必要があった。この問題を解決するために、ループ平坦化の自動化フローの提案を行う。本論文で、各ループ平坦化手法の例題パターンによる性能変化の条件が判明した。また、判明した各ループ平坦化手法の例題パターンによる性能変化の条件を利用して、常に最適な手法でループ平坦化を自動で選択し行うことが可能となった。 
(英) We develop a loop flattening tool for designing hardware with high level synthesis. When loop pipelining is applied to nested for-loops, the overhead in the number of execution cycles occurs. Loop flattening is one of the ways to reduce this overhead. At least three loop flattening method exists, so it is necessary to manually select the optimal one for a given nested loop. In order to facilitate this selection, we propose an automatic flow of loop flattening. In this paper, we experimentally evaluate the three loop flattening method and derive the criteria to select the best loop flattening method from the three for a given loop nest.
キーワード (和) 高位合成 / ループ平坦化 / LLVM / / / / /  
(英) High-Level Synthesis / Loop Flattening / LLVM / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 455, VLD2017-97, pp. 49-54, 2018年2月.
資料番号 VLD2017-97 
発行日 2018-02-21 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2017-97

研究会情報
研究会 VLD HWS  
開催期間 2018-02-28 - 2018-03-02 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawa Seinen Kaikan 
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2018-02-VLD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高位合成における多重ループに対するパイプライン処理時のサイクル数オーバーヘッド削減を行うループ平坦化ツールの開発 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Development of Loop Flattening Tool that Reduces Cycle Overhead in Loop Pipelining of Nested Loops in High Level Synthesis 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 高位合成 / High-Level Synthesis  
キーワード(2)(和/英) ループ平坦化 / Loop Flattening  
キーワード(3)(和/英) LLVM / LLVM  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 石川 大輔 / Daisuke Ishikawa / イシカワ ダイスケ
第1著者 所属(和/英) 東京都市大学 (略称: 東京都市大)
Tokyo City University (略称: TCU)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 瀬戸 謙修 / Kenshu Seto / セト ケンシュウ
第2著者 所属(和/英) 東京都市大学 (略称: 東京都市大)
Tokyo City University (略称: TCU)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-02-28 14:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2017-97 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.455 
ページ範囲 pp.49-54 
ページ数
発行日 2018-02-21 (VLD) 


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