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講演抄録/キーワード
講演名 2017-12-14 13:00
プロセス製造における品質向上のための対策判断システムの開発
高橋正和塩野谷友隆沖津 潤室 啓朗日立
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抄録 (和) 製造業の重要な経営課題の1つとして品質改善があるが,品質改善対策の選択・実施が属人的で満足な対策成功率を得られない場合があるという問題がある.本研究では機械学習によって対策判断を自動化するシステムを提案する.この実現で課題となる,鉄鋼業などの製造が連続的であるプロセス製造における,学習データ抽出時の時間範囲の決定に取り組んだ.具体的には,対策判断に用いる学習データ範囲を製品サイクルタイム(PCT) を基準に,機械学習により最適化する手法について述べる.実際の製造現場で本システムを評価し,主要な品質改善対策の成功率を20%向上できる見込みを得た. 
(英) Quality improvement is one of the important management challenges. However, the success ratio of quality improvement action sometime changes according to operators personal skills. Through the research, we propose action judge system to improve action success-ratio. The system judges whether to execute action or not by machine learning. To realize the system, we implemented the system that optimize time-range of extracted data by utilizing machine learning based on Product Cycle Time (PCT). We evaluated a prototype of the system using actual IoT data of a manufacturing process. In our evaluation, action success-ratio improves by 20%.
キーワード (和) IoT / プロセス製造 / 機械学習 / データ準備 / 品質向上 / 時系列データ / /  
(英) IoT / Process manufacturing / Machine learning / Data preparation / Quality Improvement / Time series data / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 345, CPSY2017-67, pp. 37-42, 2017年12月.
資料番号 CPSY2017-67 
発行日 2017-12-07 (CAS, ICD, CPSY) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 ICD CPSY CAS  
開催期間 2017-12-14 - 2017-12-15 
開催地(和) アートホテル石垣島 
開催地(英) Art Hotel Ishigakijima 
テーマ(和) 学生・若手研究会 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPSY 
会議コード 2017-12-ICD-CPSY-CAS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) プロセス製造における品質向上のための対策判断システムの開発 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Action Judge System for Process-Manufacturing Quality Improvement 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) IoT / IoT  
キーワード(2)(和/英) プロセス製造 / Process manufacturing  
キーワード(3)(和/英) 機械学習 / Machine learning  
キーワード(4)(和/英) データ準備 / Data preparation  
キーワード(5)(和/英) 品質向上 / Quality Improvement  
キーワード(6)(和/英) 時系列データ / Time series data  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 正和 / Masakazu Takahashi / タカハシ マサカズ
第1著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 塩野谷 友隆 / Tomotaka Shionoya / シオノヤ トモタカ
第2著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 沖津 潤 / Jun Okitsu / オキツ ジユン
第3著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 室 啓朗 / Keiro Muro / ムロ ケイロウ
第4著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
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講演者
発表日時 2017-12-14 13:00:00 
発表時間 20 
申込先研究会 CPSY 
資料番号 IEICE-CAS2017-70,IEICE-ICD2017-58,IEICE-CPSY2017-67 
巻番号(vol) IEICE-117 
号番号(no) no.343(CAS), no.344(ICD), no.345(CPSY) 
ページ範囲 pp.37-42 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-CAS-2017-12-07,IEICE-ICD-2017-12-07,IEICE-CPSY-2017-12-07 


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