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講演抄録/キーワード
講演名 2017-10-27 12:55
Si導波路上金属メタマテリアルを利用した光バッファ用遅延構造の設計
山崎理司雨宮智宏Gu Zhichen鈴木純一西山伸彦荒井滋久東工大
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抄録 (和) (事前公開アブストラクト) 将来の光ネットワークにおいて、光信号を遅延させることのできる光バッファは重要な役割を担う素子である。今回我々はメタマテリアルの急峻な波長分散を用いて、Siプラットフォーム上に作製可能な光遅延構造を提案し、その理論解析を行ったのでご報告する。 
(英) (Advance abstract in Japanese is available)
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文献情報 信学技報, vol. 117, no. 263, OCS2017-52, pp. 81-86, 2017年10月.
資料番号 OCS2017-52 
発行日 2017-10-19 (OCS, OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 OCS OPE LQE  
開催期間 2017-10-26 - 2017-10-27 
開催地(和) 桜の馬場城彩苑(熊本) 
開催地(英) Josaien, Sakuranobaba 
テーマ(和) 超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OCS 
会議コード 2017-10-OCS-OPE-LQE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Si導波路上金属メタマテリアルを利用した光バッファ用遅延構造の設計 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Design of Delay Structure for Optical Buffer using Metal Metamaterial above Si Waveguide 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 山崎 理司 / Satoshi Yamasaki / ヤマサキ サトシ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Titech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 雨宮 智宏 / Tomohiro Amemiya / アメミヤ トモヒロ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Titech)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) Gu Zhichen / Zhichen Gu / コ シチン
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Titech)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 純一 / Junichi Suzuki / スズキ ジュンイチ
第4著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Titech)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 西山 伸彦 / Nobuhiko Nishiyama / ニシヤマ ノブヒコ
第5著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Titech)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 荒井 滋久 / Shigehisa Arai / アライ シゲヒサ
第6著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Titech)
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講演者
発表日時 2017-10-27 12:55:00 
発表時間 25 
申込先研究会 OCS 
資料番号 IEICE-OCS2017-52,IEICE-OPE2017-84,IEICE-LQE2017-57 
巻番号(vol) IEICE-117 
号番号(no) no.263(OCS), no.264(OPE), no.265(LQE) 
ページ範囲 pp.81-86 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-OCS-2017-10-19,IEICE-OPE-2017-10-19,IEICE-LQE-2017-10-19 


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