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講演抄録/キーワード
講演名 2016-12-09 11:20
L10-FePt薄膜の表面形態と結晶性に及ぼす下地層の影響
清水智貴中村将大落合亮真中大)・大竹 充工学院大/中大)・二本正昭中大)・桐野文良東京藝術大)・稲葉信幸山形大
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抄録 (和) L10構造を持つFePt薄膜を高密度記録媒体などのデバイスに応用するためには,膜表面平坦性を制御する必要がある.しかしながら高基板温度で製膜を行った場合,表面起伏の大きな膜が形成されてしまう.膜の平坦性には表面エネルギーが関係しているため,平坦膜を形成するために下地層として表面エネルギーの大きな材料を用いることが有効である.本研究では,SrTiO3(001)単結晶基板上に類似の結晶構造と格子定数を持つMgO, VC, VNを2 nm厚の下地層として形成し,その上に10 nm厚のFePt膜を600 °Cの基板温度で形成した.そして,下地層材料がFePt膜の構造に与える影響について調べた.その結果表面エネルギーの大きいこれらの下地層はSrTiO3基板結晶上でエピタキシャル成長し,その上に形成したFePt膜はL10(001),(100),(010)の3種類のバリアントから成るエピタキシャル膜として成長した.FePt膜の表面起伏(Ra)は4.5 nm (MgO) > 1.3 nm (VC) > 0.3 nm (VN)となり,MgOよりも表面エネルギーが大きなVCおよびVN下地層を用いることによって,表面平坦性に優れたFePt膜が得られることが明らかになった. 
(英) In order to apply FePt alloy thin film with L10 structure to magnetic recording media, etc., it is required to control the film surface flatness. However, the surface of L10-ordered FePt film is generally rough because of clustering of deposited atoms on the substrate surface at high-deposition temperatures. As the surface morphology of epitaxial film is influenced by difference in the surface energy of substrate and film materials, it is useful to investigate the effect of surface energy difference on the surface flatness of L10-ordered FePt film. In the present study, FePt films of 10 nm thickness are deposited on MgO, VC, and, VN underlayers of 2 nm thickness which are prepared on SrTiO3(001) single-crystal substrates at 600 °C. The influence of surface energy of underlayer on the structure of FePt film is investigated. The results indicate that an employment of underlayer material of VN or VC which has a surface energy higher than that of MgO is effective in the preparation of L10-ordered FePt film with flatter surface.
キーワード (和) FePt / L10構造 / 表面平坦性 / エピタキシャル成長 / 下地層 / 表面エネルギー / 単結晶基板 /  
(英) FePt / L10 structure / surface flatness / epitaxial growth / underlayer / surface energy / single-crystal substarate /  
文献情報 信学技報, vol. 116, 2016年12月.
資料番号  
発行日 2016-12-01 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2016-12-08 - 2016-12-09 
開催地(和) 愛媛大学 
開催地(英) Ehime Univ. 
テーマ(和) 信号処理,一般 
テーマ(英) Signal Processing, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2016-12-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) L10-FePt薄膜の表面形態と結晶性に及ぼす下地層の影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Influence of Underlayer Material on the Surface and the Crystallographic Qualities of L10-FePt Alloy Thin Film 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) FePt / FePt  
キーワード(2)(和/英) L10構造 / L10 structure  
キーワード(3)(和/英) 表面平坦性 / surface flatness  
キーワード(4)(和/英) エピタキシャル成長 / epitaxial growth  
キーワード(5)(和/英) 下地層 / underlayer  
キーワード(6)(和/英) 表面エネルギー / surface energy  
キーワード(7)(和/英) 単結晶基板 / single-crystal substarate  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 智貴 / Tomoki Shimizu / シミズ トモキ
第1著者 所属(和/英) 中央大学 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 中村 将大 / Masahiro Nakamura / ナカムラ マサヒロ
第2著者 所属(和/英) 中央大学 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 落合 亮真 / Ryoma Ochiai / オチアイ リョウマ
第3著者 所属(和/英) 中央大学 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 大竹 充 / Mitsuru Ohtake / オオタケ ミツル
第4著者 所属(和/英) 工学院大学/中央大学 (略称: 工学院大/中大)
Kogakuin University/Chuo University (略称: Kogakuin Univ./Chuo Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 二本 正昭 / Masaaki Futamoto / フタモト マサアキ
第5著者 所属(和/英) 中央大学 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 桐野 文良 / Fumiyoshi Kirino / キリノ フミヨシ
第6著者 所属(和/英) 東京藝術大学 (略称: 東京藝術大)
Tokyo University of the Arts (略称: Tokyo Univ. Arts)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 稲葉 信幸 / Nobuyuki Inaba / イナバ ノブユキ
第7著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
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講演者
発表日時 2016-12-09 11:20:00 
発表時間 25 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 IEICE-MR2016-40 
巻番号(vol) IEICE-116 
号番号(no) no.348 
ページ範囲 pp.63-67 
ページ数 IEICE-5 
発行日 IEICE-MR-2016-12-01 


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