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講演抄録/キーワード
講演名 2016-01-29 10:45
減圧CVD成長によってサファイア基板上に作製した六方晶BN薄膜の発光特性
清水乙生梅原直己増田 敦渡辺佳那光野徹也小南裕子原 和彦静岡大EID2015-38 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2015-38
抄録 (和) BCl3とNH3を原料とする減圧CVDにより,c面サファイア基板上に作製した六方晶窒化ホウ素薄膜について,カソードルミネッセンス(CL)による発光特性の評価を行った.成長温度1200 Cにおいて成長圧力を20から5 kPaに減少させることにより,214 nmをピークとするバンド端発光が増大した.高品質バルク結晶との比較から,この発光は自由励起子発光と同定された.また,CL測定時の電子線加速電圧依存性より,薄膜の成長に伴って発光特性が改善することがわかった.これらのCL特性とその各種成長条件依存性に基づいて,成長反応と膜質形成過程が膜質に与える影響について考察を行った. 
(英) The luminescence property of the hexagonal boron nitride (h-BN) thin films grown on c-plane sapphire substrates by chemical vapor deposition using BCl3 and NH3 as sources was characterized by cathodoluminescence (CL). The intensity of the emission band located at 214 nm, which can be ascribed to the recombination of free excitons of h-BN by comparison with that of the h-BN bulk crystal, increased with decreasing a reactor pressure from 20 to 5 kPa at a growth temperature of 1200 C. The influences of growth reaction and film formation on the film quality were discussed in terms of the observed CL properties and its dependence on growth conditions.
キーワード (和) 六方晶窒化ホウ素 / CVD / 薄膜 / カソードルミネッセンス / 励起子発光 / / /  
(英) hexagonal boron nitride / CVD / thin film / cathodoluminescence / excitonic luminescence / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 439, EID2015-38, pp. 97-100, 2016年1月.
資料番号 EID2015-38 
発行日 2016-01-21 (EID) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EID2015-38 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2015-38

研究会情報
研究会 EID ITE-IDY IEE-EDD SID-JC IEIJ-SSL  
開催期間 2016-01-28 - 2016-01-29 
開催地(和) 富山大学 
開催地(英) Toyama Univ. 
テーマ(和) 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会 
テーマ(英) Joint Meeting of Emissive / Non-Emissive Displays 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EID 
会議コード 2016-01-EID-IDY-EDD-JC-SSL 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 減圧CVD成長によってサファイア基板上に作製した六方晶BN薄膜の発光特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Luminescence property of hexagonal boron nitride films grown on sapphire substrates by low-pressure CVD 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 六方晶窒化ホウ素 / hexagonal boron nitride  
キーワード(2)(和/英) CVD / CVD  
キーワード(3)(和/英) 薄膜 / thin film  
キーワード(4)(和/英) カソードルミネッセンス / cathodoluminescence  
キーワード(5)(和/英) 励起子発光 / excitonic luminescence  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 乙生 / Takaki Shimizu / シミズ タカキ
第1著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 梅原 直己 / Naoki Umehara / ウメハラ ナオキ
第2著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 増田 敦 / Atsushi Masuda / マスダ アツシ
第3著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡辺 佳那 / Kana Watanabe / ワタナベ カナ
第4著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 光野 徹也 / Tetsuya Kouno / コウノ テツヤ
第5著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 小南 裕子 / Hiroko Kominami / コミナミ ヒロコ
第6著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 原 和彦 / Kazuhiko Hara / ハラ カズヒコ
第7著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-01-29 10:45:00 
発表時間 8分 
申込先研究会 EID 
資料番号 EID2015-38 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.439 
ページ範囲 pp.97-100 
ページ数
発行日 2016-01-21 (EID) 


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