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講演抄録/キーワード
講演名
2016-01-22 11:15
アミドネート1価Cu錯体を用いた超臨界流体中Cu堆積
○
Md Rasadujjaman
・
渡邉満洋
(
山梨大
)・
須藤 弘
・
町田英明
(
気相成長
)・
近藤英一
(
山梨大
)
SDM2015-110
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2015-110
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 115, no. 417, SDM2015-110, pp. 9-12, 2016年1月.
資料番号
SDM2015-110
発行日
2016-01-15 (SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
SDM2015-110
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2015-110
研究会情報
研究会
SDM
開催期間
2016-01-22 - 2016-01-22
開催地(和)
東京大学 山上会館
開催地(英)
Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo
テーマ(和)
配線・実装技術と関連材料技術
テーマ(英)
Interconnects, Package and related materials
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2016-01-SDM
本文の言語
英語(日本語タイトルあり)
タイトル(和)
アミドネート1価Cu錯体を用いた超臨界流体中Cu堆積
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Copper Thin Film Growth using Cu(I) Amidinate Precursor in Supercritical Carbon Dioxide
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
Md Rasadujjaman
/
Md Rasadujjaman
/
エムディー ラサジュジャマン
第1著者 所属(和/英)
山梨大学
(略称:
山梨大
)
University of Yamanashi
(略称:
Univ. Yamanashi
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
渡邉 満洋
/
Mitsuhiro Watanabe
/
ワタナベ ミツヒロ
第2著者 所属(和/英)
山梨大学
(略称:
山梨大
)
University of Yamanashi
(略称:
Univ. Yamanashi
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
須藤 弘
/
Hiroshi Sudoh
/
スドウ ヒロシ
第3著者 所属(和/英)
気相成長株式会社
(略称:
気相成長
)
Gas phase growth
(略称:
Gas phase growth
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
町田 英明
/
Hideaki Machida
/
マチダ ヒデアキ
第4著者 所属(和/英)
気相成長株式会社
(略称:
気相成長
)
Gas phase growth
(略称:
Gas phase growth
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
近藤 英一
/
Eiichi Kondoh
/
コンドウ エイイチ
第5著者 所属(和/英)
山梨大学
(略称:
山梨大
)
University of Yamanashi
(略称:
Univ. Yamanashi
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第6著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
(略称: )
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2016-01-22 11:15:00
発表時間
20分
申込先研究会
SDM
資料番号
SDM2015-110
巻番号(vol)
vol.115
号番号(no)
no.417
ページ範囲
pp.9-12
ページ数
4
発行日
2016-01-15 (SDM)
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