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講演抄録/キーワード
講演名 2016-01-22 11:15
アミドネート1価Cu錯体を用いた超臨界流体中Cu堆積
Md Rasadujjaman渡邉満洋山梨大)・須藤 弘町田英明気相成長)・近藤英一山梨大SDM2015-110 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2015-110
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文献情報 信学技報, vol. 115, no. 417, SDM2015-110, pp. 9-12, 2016年1月.
資料番号 SDM2015-110 
発行日 2016-01-15 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2016-01-22 - 2016-01-22 
開催地(和) 東京大学 山上会館 
開催地(英) Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo 
テーマ(和) 配線・実装技術と関連材料技術 
テーマ(英) Interconnects, Package and related materials 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2016-01-SDM 
本文の言語 英語(日本語タイトルあり) 
タイトル(和) アミドネート1価Cu錯体を用いた超臨界流体中Cu堆積 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Copper Thin Film Growth using Cu(I) Amidinate Precursor in Supercritical Carbon Dioxide 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) Md Rasadujjaman / Md Rasadujjaman / エムディー ラサジュジャマン
第1著者 所属(和/英) 山梨大学 (略称: 山梨大)
University of Yamanashi (略称: Univ. Yamanashi)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡邉 満洋 / Mitsuhiro Watanabe / ワタナベ ミツヒロ
第2著者 所属(和/英) 山梨大学 (略称: 山梨大)
University of Yamanashi (略称: Univ. Yamanashi)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 須藤 弘 / Hiroshi Sudoh / スドウ ヒロシ
第3著者 所属(和/英) 気相成長株式会社 (略称: 気相成長)
Gas phase growth (略称: Gas phase growth)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 町田 英明 / Hideaki Machida / マチダ ヒデアキ
第4著者 所属(和/英) 気相成長株式会社 (略称: 気相成長)
Gas phase growth (略称: Gas phase growth)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 近藤 英一 / Eiichi Kondoh / コンドウ エイイチ
第5著者 所属(和/英) 山梨大学 (略称: 山梨大)
University of Yamanashi (略称: Univ. Yamanashi)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-01-22 11:15:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2015-110 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.417 
ページ範囲 pp.9-12 
ページ数
発行日 2016-01-15 (SDM) 


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