講演抄録/キーワード |
講演名 |
2014-12-12 13:00
n-ch, p-ch, pin-ch poly-Si TFPTの光伝導性の評価 ○渕矢剛宏・前田善春・門目尭之・田中 匠・松田時宜・木村 睦(龍谷大) EID2014-21 SDM2014-116 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2014-21 SDM2014-116 |
抄録 |
(和) |
フォトセンサ応用を目指して、n-ch, p-ch, pin-ch poly-Si TFPT の光伝導性を評価した.ゲート端子をn領域に接続したpin-ch,n-ch,ゲート端子をp領域に接続したpin-ch,p-chの順で,光誘起電流が大きいことが観測された.また、デバイスシミュレーションを用いて,n-ch, p-ch, pin-ch poly-Si TFPTの電子密度(n)・ホール密度(p)・再結合割合を解析した.再結合割合の差異が光誘起電流の差異の原因となっていることが示唆された. |
(英) |
We have evaluated photoconductivities of n-ch, p-ch, and pin-ch poly-Si TFPTs for photosensor application. It was observed that the photo-induced electric current is: pin-ch with the gate terminal connected to n-region > n-ch > pin-ch with the gate terminal connected to p-region > p-ch. Moreover, we have analyzed electron density (n), hole density (p), and recombination rate of the n-ch, p-ch, and pin-ch poly-Si TFPTs using device simulation. It was suggested that the difference of photo-induced electric current is caused by the difference of the recombination rate. |
キーワード |
(和) |
n-ch / p-ch / pin-ch / poly-Si / TFPT / 光誘起電流 / デバイスシミュレーション / 再結合割合 |
(英) |
n-ch / p-ch / pin-ch / poly-Si / TFPT / Photo-induced electric current / Device simulation / Recombination rate |
文献情報 |
信学技報, vol. 114, no. 360, SDM2014-116, pp. 41-44, 2014年12月. |
資料番号 |
SDM2014-116 |
発行日 |
2014-12-05 (EID, SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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