お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2014-03-05 13:50
薄膜BOX-SOIにおける動的なマルチVth技術に関する設計手法
三枝樹規宇佐美公良芝浦工大VLD2013-162
抄録 (和) 薄膜BOX-SOI(Silicon on Thin BOX:SOTB)はFD-SOIのデバイスの一つである。これは、電源電圧0.4Vという超低電圧で動作し、基板バイアス効果によりトランジスタの閾値を大きく変動させることが可能である。この特性を利用することで、高閾値のみで回路設計をした後、回路内の高速動作が必要な部分のみ基板バイアス効果を用い閾値を下げることでマルチVthを実現する手法が提案された。本研究ではその手法に関して、より汎用的な設計手法を提案しそれに対する評価を行った。また、提案する設計手法とマルチVthとの比較も行った。 
(英) Silicon on thin BOX(SOTB) is one of FD-SOI device.It is possible to operate with ultra-low voltage of 0.4V and greatly change the threshold voltage of a transistor by body biasing.So far, a design technique that realizes multi-vth using body biasing has been proposed.After designing the circuit which consists of only high threshold transistors, the threshold voltage is lowered only at the area which needs high-speed operation by applying body bias.In this research, we proposed a versatile design methodology and performed the evaluation for it.We show a comparison of a multi-Vth design and the design methodology that we proposed.
キーワード (和) 薄膜BOX-SOI / 基板バイアス / マルチVth / リーク電力 / / / /  
(英) Silicon-on-Thin-BOX / Body Bias / Multi Vth / Leakage Power / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, no. 454, VLD2013-162, pp. 153-158, 2014年3月.
資料番号 VLD2013-162 
発行日 2014-02-24 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2013-162

研究会情報
研究会 VLD  
開催期間 2014-03-03 - 2014-03-05 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawa Seinen Kaikan 
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術 
テーマ(英) Design Technology for System-on-Silicon 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2014-03-VLD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 薄膜BOX-SOIにおける動的なマルチVth技術に関する設計手法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Design methodology on Dynamic Multi-Vth control technique for Silicon on Thin Buried Oxide(SOTB) 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 薄膜BOX-SOI / Silicon-on-Thin-BOX  
キーワード(2)(和/英) 基板バイアス / Body Bias  
キーワード(3)(和/英) マルチVth / Multi Vth  
キーワード(4)(和/英) リーク電力 / Leakage Power  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 三枝 樹規 / Tatsuki Saigusa / サイグサ タツキ
第1著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Inst. of Tech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 宇佐美 公良 / Kimiyoshi Usami / ウサミ キミヨシ
第2著者 所属(和/英) 芝浦工業大学 (略称: 芝浦工大)
Shibaura Institute of Technology (略称: Shibaura Inst. of Tech)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2014-03-05 13:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2013-162 
巻番号(vol) vol.113 
号番号(no) no.454 
ページ範囲 pp.153-158 
ページ数
発行日 2014-02-24 (VLD) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会