講演抄録/キーワード |
講演名 |
2014-03-04 13:20
[招待講演]Advanced Model-Based Hotspot Fix Flow for Layout Optimization with Genetic Algorithm ○Shuhei Sota(Toshiba Microelectronics)・Taiga Uno・Masanari Kajiwara・Chikaaki Kodama(Toshiba)・Hirotaka Ichikawa(Toshiba Microelectronics)・Ryota Aburada・Toshiya Kotani(Toshiba)・Kei Nakagawa・Tamaki Saito(Toshiba Microelectronics) VLD2013-148 |
抄録 |
(和) |
Low-k1リソグラフィ・プロセスでは、ホットスポットと呼ばれるリソグラフィ上の欠陥が多数発生するため、その削減が歩留り向上のため急務となっている。これまでホットスポットの解決手法として、ルールベースHSFとパターンマッチングベースHSFが提案されている。ルールベースHSFでは、露光後のパターン幅やパターン間のスペースが所望の寸法より狭くなっている個所を光学シミュレーションによって発見し、事前に決定した修正ルールに従ってパターン間の寸法を拡張して、ホットスポットを取り除く。しかし、微細化が進んだ、32nm, 28nmノードのプロセスでは、この手法では修正しきれないホットスポットが発生するようになった。一方パターンマッチングベースHSFは、ホットスポットのパターンを、ライブラリに作成した修正後のパターンに置き換えるため、ルールベースHSFよりも効果的に修正することができるが、置き換えるパターンが存在しない場合にはホットスポットを修正することができない。本講演では我々が提案するモデルベースHSF手法を紹介する。最小寸法と最小スペースを持つパターンを検出した後、エッジの移動でホットスポットの修正をする。移動するエッジの選択と移動量は、遺伝的アルゴリズムを用い決定している。最後に実験で本手法の効果を示す。 |
(英) |
Under the low-k1 lithography process, many hotspots are generated and their reduction is an urgent issue for mass production. Several strategies for hotspots fix (HSF) were proposed so far. Among them, two major strategies are "rule-based HSF” and “pattern matching-based HSF". The former is a simple strategy of expanding the width of narrow patterns and spaces based on pre-determined rule to remove hotspots. However, hotspots unable to remove by this strategy are increasing in recent 32nm and 28nm node. On the other hand, the latter is more effective than the former. This HSF can remove hotspots by replacing the pattern with the corresponding fixed pattern if both patterns are registered in the library. When they are not registered, it is understood that hotspots cannot be removed. Therefore, we propose a new model-based HSF strategy. Our strategy finds minimum width of pattern and minimum space between patterns and tries to remove hotspots by moving edges of the patterns. Genetic algorithm determines appropriately which edges to move and how long. The experimental results show the effectiveness of our strategy. |
キーワード |
(和) |
リソグラフィ / ホットスポット / HSF / 遺伝的アルゴリズム / モデルベースHSF / / / |
(英) |
Lithography / Hotspot / HSF / Genetic algorithm / Model-based HSF / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 113, no. 454, VLD2013-148, pp. 85-85, 2014年3月. |
資料番号 |
VLD2013-148 |
発行日 |
2014-02-24 (VLD) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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