講演抄録/キーワード |
講演名 |
2014-03-04 15:05
クラスタリングによる高速なリソグラフィ照明形状最適化 ○多和田雅師・柳澤政生・戸川 望(早大)・橋本隆希・坂主圭史・野嶋茂樹・小谷敏也(東芝) VLD2013-152 |
抄録 |
(和) |
リソグラフィでは光をフォトマスクに通してウェハ上にパターンを生成する.
近年の微細化により生成されるパターンはフォトマスクと異なってしまい,フォトマスクや照明形状を最適化する処理が必要となる.
フォトマスク最適化に対し照明形状最適化は高速に関して研究が少ない.
提案手法ではクラスタリングを用いて照明を表現するパラメータの総数を性能が劣化することなく削減する.
最適化に関係するパラメータを削減し高速に解を求める. |
(英) |
In lithography, we generate patterns on a wafer through a photomask,
where patterns generated have to be close to ideal patterns by
optimizing a photomask as well as an exposure source. One of the most
important tasks here is to speed-up exposure source optimization to
have overall optimized photomask and exposure source.
In this paper, we propose a speeding-up method for exposure source
optimization by clustering for lithography.
In our method, we cluster several source grid-points utilizing the lithography property and reduce the
number of parameters to be optimized simultaneously.
Experimental results demonstrate that our method achieves 8X speed-up compared with
a conventional method. |
キーワード |
(和) |
リソグラフィ / 照明最適化 / クラスタリング / / / / / |
(英) |
lithography / source optimization / clustering / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 113, no. 454, VLD2013-152, pp. 105-110, 2014年3月. |
資料番号 |
VLD2013-152 |
発行日 |
2014-02-24 (VLD) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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