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講演抄録/キーワード
講演名 2013-03-08 11:45
レジスト倒壊パターンを用いたナノ人工物メトリクス
松本 勉花木健太鈴木僚介関口大樹横浜国大)・法元盛久大八木康之大日本印刷)・成瀬 誠NICT)・竪 直也大津元一東大
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抄録 (和) 人工物の個体に固有の物理的特徴を活用する人工物メトリクスは,物理的特徴の測定がその形成に比べて高精度で行えることを利用して,耐クローン性(コピー困難性)をもたらすことを狙った技術である.耐クローン性は情報・物理セキュリティ分野において基本的に重要な性質であり,数多の応用がある.さて,対象とする物体の電磁気学的特性や機械振動特性などの様々な物理的特性による物理的特徴を測定した値(情報)は,対象の物体だけで定まるものではなく,物体の特徴と,それを測定するシステムである人工物メトリック・システムとの組により定まる.従来は,マイクロメートルスケールのパターンの測定と偽造の攻防を主な検討の場として,紙やプラスチックや半導体などの媒体における人工物メトリクスが開発され,実用化がなされてきた.微細加工技術の近年の進歩を踏まえると,ナノメートルスケールにおける人工物メトリクス(ナノ人工物メトリクス)を本格的に検討することが重要な課題として成立する.本稿は,このナノ人工物メトリクスに関する研究成果の速報であり,数10ナノメートルの精度でパターンを形成できる電子線リソグラフィを用いたクローン攻撃に耐えられるナノ人工物メトリクスが構築できる見通しについて報告する.すなわち,電子線リソグラフィにおける電子線レジスト・ピラーの倒壊現象を積極的に利用してナノメートルスケールのランダムな凹凸構造をシリコン基板上に形成し,これを最先端の集積回路開発に用いられる測長走査電子顕微鏡(CD-SEM)と情報処理技術を用いてナノメートルオーダの精度で読みとる人工物メトリック・システムとその簡易評価結果の概要を示す. 
(英) Artifact-metrics is an automated method of utilizing physical artifacts based on their measurable intrinsic characteristics such as microscopic random-patterns and the like which are inherently emerging in their manufacturing process. This article reports a brand-new proposal of nanometer scale artifact-metrics in which a random nanostructure based on collapsing of electron-beam resist pillars is processed by a system adopting a critical-dimension scanning electron microscope. The nano articaft-metric system is expected to be resistant against cloning attacks including counterfeit with pattern forming by electron beam lithography.
キーワード (和) 情報・物理セキュリティ / 人工物メトリクス / 耐クローン性 / 電子線リソグラフィ / レジスト倒壊 / / /  
(英) information and physical security / artifact-metrics / clone-resistance / electron beam lithography / resist collapsing / / /  
文献情報 信学技報, vol. 112, no. 461, ISEC2012-114, pp. 217-222, 2013年3月.
資料番号 ISEC2012-114 
発行日 2013-02-28 (IT, ISEC, WBS) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 IT ISEC WBS  
開催期間 2013-03-07 - 2013-03-08 
開催地(和) 関西学院大学 大阪梅田キャンパス 
開催地(英) Kwansei Gakuin Univ., Osaka-Umeda Campus 
テーマ(和) IT・ISEC・WBS合同研究会 
テーマ(英) joint meeting of IT, ISEC, and WBS 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ISEC 
会議コード 2013-03-IT-ISEC-WBS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) レジスト倒壊パターンを用いたナノ人工物メトリクス 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Nano Artifact-metrics based on Resist Collapsing 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 情報・物理セキュリティ / information and physical security  
キーワード(2)(和/英) 人工物メトリクス / artifact-metrics  
キーワード(3)(和/英) 耐クローン性 / clone-resistance  
キーワード(4)(和/英) 電子線リソグラフィ / electron beam lithography  
キーワード(5)(和/英) レジスト倒壊 / resist collapsing  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 松本 勉 / Tsutomu Matsumoto / マツモト ツトム
第1著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: Yokohama National Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 花木 健太 / Kenta Hanaki / ハナキ ケンタ
第2著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: Yokohama National Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 僚介 / Ryosuke Suzuki / スズキ リョウスケ
第3著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: Yokohama National Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 関口 大樹 / Daiki Sekiguchi / セキグチ ダイキ
第4著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: Yokohama National Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 法元 盛久 / Morihisa Hoga / ホウガ モリヒサ
第5著者 所属(和/英) 大日本印刷 (略称: 大日本印刷)
DNP (略称: DNP)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 大八木 康之 / Yasuyuki Ohyagi / オオヤギ ヤスユキ
第6著者 所属(和/英) 大日本印刷 (略称: 大日本印刷)
DNP (略称: DNP)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 成瀬 誠 / Makoto Naruse / ナルセ マコト
第7著者 所属(和/英) 情報通信研究機構 (略称: NICT)
NICT (略称: NICT)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 竪 直也 / Naoya Tate / タテ ナオヤ
第8著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 大津 元一 / Motoichi Ohtsu / オオツ モトイチ
第9著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
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講演者
発表日時 2013-03-08 11:45:00 
発表時間 25 
申込先研究会 ISEC 
資料番号 IEICE-IT2012-96,IEICE-ISEC2012-114,IEICE-WBS2012-82 
巻番号(vol) IEICE-112 
号番号(no) no.460(IT), no.461(ISEC), no.462(WBS) 
ページ範囲 pp.217-222 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-IT-2013-02-28,IEICE-ISEC-2013-02-28,IEICE-WBS-2013-02-28 


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