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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2013-02-27 14:10 外部電圧印加に伴うキャリア注入による極薄SOI膜のゼーベック係数変化 ○池田浩也・鈴木悠平・三輪一聡（静岡大）・ファイズ サレ（静岡大/学振）  ED2012-129 SDM2012-158 エレソ技報アーカイブへのリンク：ED2012-129 SDM2012-158 |
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| 抄録 | （和） | シリコンをナノ構造化することにより熱電変換性能を向上するためのひとつのポイントは，フェルミエネルギーを制御してゼーベック係数を大きくすることである．そのため，極薄SOI層に外部電圧を印加したときのゼーベック係数の変化を実験と理論計算の両面から調べた．その結果，外部電圧によるSOIのゼーベック係数は，BOX層との界面近傍のキャリア密度，すなわちフェルミエネルギーを介して制御でき，その値にはフォノンドラッグの効果も寄与することが示された． |
| （英） | The enhancement of Seebeck coefficient by controlling the Si Fermi energy is one of key issues for enhancing the thermoelectric performance by Si nanostructures. For this purpose, the variation of Seebeck coefficient in ultrathin Si-on-insulator (SOI) layer by external bias was experimentally and theoretically investigated. It was found that the SOI Seebeck coefficient is mainly tuned by the carrier concentration or Fermi energy near the buried-oxide layer and includes the influence of phonon drag. | |
| キーワード | （和） | サーモパイル型赤外線センサ / ゼーベック係数 / 極薄SOI層 / フェルミエネルギー / フォノンドラッグ / / / |
| （英） | thermopile IR photodetector / Seebeck coefficient / ultrathin SOI layer / Fermi energy / phonon drag / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 446, SDM2012-158, pp. 7-11, 2013年2月. | |
| 資料番号 | SDM2012-158 | |
| 発行日 | 2013-02-20 (ED, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2012-129 SDM2012-158 エレソ技報アーカイブへのリンク：ED2012-129 SDM2012-158 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM ED |
| 開催期間 | 2013-02-27 - 2013-02-28 |
| 開催地（和） | 北海道大学（百年記念会館） |
| 開催地（英） | Hokkaido Univ. |
| テーマ（和） | 機能ナノデバイスおよび関連技術 |
| テーマ（英） | Functional nanodevices and related technologies |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2013-02-SDM-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 外部電圧印加に伴うキャリア注入による極薄SOI膜のゼーベック係数変化 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Variation of Seebeck coefficient of Si-on-insulator layer induced by bias-injected carriers |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | サーモパイル型赤外線センサ / thermopile IR photodetector |
| キーワード(2)（和/英） | ゼーベック係数 / Seebeck coefficient |
| キーワード(3)（和/英） | 極薄SOI層 / ultrathin SOI layer |
| キーワード(4)（和/英） | フェルミエネルギー / Fermi energy |
| キーワード(5)（和/英） | フォノンドラッグ / phonon drag |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 池田 浩也 / Hiroya Ikeda / イケダ ヒロヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鈴木 悠平 / Yuhei Suzuki / スズキ ユウヘイ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三輪 一聡 / Kazutoshi Miwa / ミワ カズトシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | ファイズ サレ / Faiz Salleh / ファイズ サレ |
| 第4著者 所属（和/英） | 静岡大学/日本学術振興会特別研究員 (略称： 静岡大/学振) Shizuoka University/Research Fellow of the Japan Society for the Promotion of Science (略称： Shizuoka Univ./Research Fellow of JSPS) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2013-02-27 14:10:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | ED2012-129, SDM2012-158 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.445(ED), no.446(SDM) |
| ページ範囲 | pp.7-11 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2013-02-20 (ED, SDM) |
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