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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-10-12 15:40 大規模SFQ回路のためのNb多層アドバンストプロセスの開発 ○永沢秀一・日野出憲治・佐藤哲朗・日高睦夫（超電導工学研）・藤巻 朗・赤池宏之（名大）・吉川信行（横浜国大）・高木一義・高木直史（京大）  SCE2011-18 エレソ技報アーカイブへのリンク：SCE2011-18 |
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| 抄録 | （和） | 大規模SFQ回路の開発を目的として、臨界電流密度10kA/cm2のNb多層アドバンストプロセス（ADP）を開発し、そのプロセスの信頼性向上に向けた研究を行っている。そのために、これまで、接合、抵抗、コンタクトなどの各種素子特性や欠陥評価をするためのプロセス評価チップと、実際のSFQ回路で欠陥評価をするためのシフトレジスタチップの測定評価の両面から、プロセスの評価を行い信頼性向上に努めてきた。今回は、この二つの測定結果の相関と共にシフトレジスタの測定結果の詳細を報告する。 |
| （英） | We have been developing a Nb multi-layer fabrication process for large-scale SFQ circuits. We have been evaluating both diagnostic chips and shift register chips to improve reliability of the fabrication process. The diagnostic chip was designed to evaluate the characteristics of the basic elements such as junctions, contacts, resisters, and wirings in addition to their defect evaluations. The shift register chip was designed to evaluate defects in real SFQ circuits and defects depending circuit size. We discuss a correlation of defects between the diagnostic chips and the shift register chips, and describe detail of the measurement results of the shift register chips to investigate the many possible causes of the problems and improving reliability in our fabrication process. | |
| キーワード | （和） | SFQ回路 / 超伝導集積回路 / 製造プロセス / 多層構造 / ニオブ / シフトレジスタ / / |
| （英） | SFQ circuit / Superconducting integrated circuit / Fabrication process / Multi-layer structure / Niobium / Shift register / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 230, SCE2011-18, pp. 37-42, 2011年10月. | |
| 資料番号 | SCE2011-18 | |
| 発行日 | 2011-10-05 (SCE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SCE2011-18 エレソ技報アーカイブへのリンク：SCE2011-18 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SCE |
| 開催期間 | 2011-10-12 - 2011-10-12 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 超伝導エレクトロニクス基盤技術及び一般 |
| テーマ（英） | Fundamental Technologies for Superconducting Electronics, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SCE |
| 会議コード | 2011-10-SCE |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 大規模SFQ回路のためのNb多層アドバンストプロセスの開発 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of Nb multi-layer Advanced Fabrication Process for Large-scale SFQ Circuits |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | SFQ回路 / SFQ circuit |
| キーワード(2)（和/英） | 超伝導集積回路 / Superconducting integrated circuit |
| キーワード(3)（和/英） | 製造プロセス / Fabrication process |
| キーワード(4)（和/英） | 多層構造 / Multi-layer structure |
| キーワード(5)（和/英） | ニオブ / Niobium |
| キーワード(6)（和/英） | シフトレジスタ / Shift register |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 永沢 秀一 / Shuichi Nagasawa / ナガサワ シュウイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 超電導工学研究所 (略称： 超電導工学研) Superconductivity Research Laboratory (略称： ISTEC-SRL) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 日野出 憲治 / Kenji Hinode / ヒノデ ケンジ |
| 第2著者 所属（和/英） | 超電導工学研究所 (略称： 超電導工学研) Superconductivity Research Laboratory (略称： ISTEC-SRL) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐藤 哲朗 / Tetsuro Satoh / サトウ テツロウ |
| 第3著者 所属（和/英） | 超電導工学研究所 (略称： 超電導工学研) Superconductivity Research Laboratory (略称： ISTEC-SRL) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 日高 睦夫 / Mutsuo Hidaka / ヒダカ ムツオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 超電導工学研究所 (略称： 超電導工学研) Superconductivity Research Laboratory (略称： ISTEC-SRL) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 藤巻 朗 / Akira Fujimaki / フジマキ アキラ |
| 第5著者 所属（和/英） | 名古屋大学 (略称： 名大) Nagoya University (略称： Nagoya Uni.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 赤池 宏之 / Hiroyuki Akaike / アカイケ ヒロユキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 名古屋大学 (略称： 名大) Nagoya University (略称： Nagoya Uni.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 吉川 信行 / Nobuyuki Yoshikawa / ヨシカワ ノブユキ |
| 第7著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： Yohohama National Uni.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高木 一義 / Kazuyoshi Takagi / タカギ カズヨシ |
| 第8著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) kyoto University (略称： Kyoto Uni.) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高木 直史 / Naofumi Takagi / タカギ ナオフミ |
| 第9著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) kyoto University (略称： Kyoto Uni.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-10-12 15:40:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SCE |
| 資料番号 | SCE2011-18 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.230 |
| ページ範囲 | pp.37-42 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2011-10-05 (SCE) |
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