講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-04-18 10:50
[招待講演]NAND Flashメモリ高性能化の技術動向とNAND Flashプロセスでの混載DRAM技術 ○高島大三郎・野口充宏・柴田 昇・神田和重・助川 博・藤井秀壮(東芝) ICD2011-2 エレソ技報アーカイブへのリンク:ICD2011-2 |
抄録 |
(和) |
本論文では、NAND Flashメモリの高性能化の技術動向と、標準NAND Flashプロセスを用いた混載DRAM技術について述べる。32nm NAND Flashプロセスで試作した32KB混載DRAMは1.5µm2 セル、2.4mm2/Mbを実現し、高密度な混載DRAMページバッファを可能にする。Self-Boost技術やその他新規技術によって、十分な±100mVセル信号、1x10-17未満のSoft Error によるBit Error Rate、10msデータ保持@85Cが達成出来た。 |
(英) |
In this paper, first, the technical trend for high-bandwidth NAND flash memories is introduced. Second, an embedded DRAM using a standard NAND flash memory process has been demonstrated for the first time. A prototype of 32nm 32KB embedded DRAM macro with 1.5µm2 cell using a 3fF MOS capacitor realizes 2.4mm2/Mb density and provides DRAM page buffer for a NAND flash memory to enhance read/write performance. A self-boost and several new techniques have achieved 66MB/s/pin data rate, negligible soft error of 1x10-17 BER, and 10ms data retention by ±100mV cell signal. |
キーワード |
(和) |
NANDフラッシュメモリ / 混載DRAM / ページバッファ / 書込みバンド幅 / プログラム時間 / / / |
(英) |
NAND Flash Memory / Embedded DRAM / Page Buffer / Write Bandwidth / Programming Time / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 6, ICD2011-2, pp. 7-12, 2011年4月. |
資料番号 |
ICD2011-2 |
発行日 |
2011-04-11 (ICD) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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