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講演抄録/キーワード
講演名 2010-06-22 16:30
銅酸化物超伝導体を用いたReRAMの研究 ~ ペロブスカイト型ReRAMの動作解明 ~
松原勝彦木下健太郎花田明紘岸田 悟鳥取大)   エレソ技報アーカイブはこちら
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文献情報 信学技報
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研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2010-06-22 - 2010-06-22 
開催地(和) 東京大学(生産研An棟) 
開催地(英) An401・402 Inst. Indus. Sci., The Univ. of Tokyo 
テーマ(和) ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術(応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会、研究集会との合同開催) 
テーマ(英) Science and Technology for Dielectric Thin Films for MIS Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2010-06-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 銅酸化物超伝導体を用いたReRAMの研究 
サブタイトル(和) ペロブスカイト型ReRAMの動作解明 
タイトル(英) Research of ReRAM with Copper-oxide superconductor 
サブタイトル(英) Operation clarification of Perovskite type ReRAM 
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 松原 勝彦 / Katsuhiko Matsubara / マツバラ カツヒコ
第1著者 所属(和/英) 鳥取大学 (略称: 鳥取大)
Tottori University (略称: Tottori Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 木下 健太郎 / Kentaro Kinoshita / キノシタ ケンタロウ
第2著者 所属(和/英) 鳥取大学 (略称: 鳥取大)
Tottori University (略称: Tottori Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 花田 明紘 / Akihiro Hanada / ハナダ アキヒロ
第3著者 所属(和/英) 鳥取大学 (略称: 鳥取大)
Tottori University (略称: Tottori Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 岸田 悟 / Satoru Kishida / キシダ サトル
第4著者 所属(和/英) 鳥取大学 (略称: 鳥取大)
Tottori University (略称: Tottori Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-06-22 16:30:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 SDM 
資料番号  
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.90 
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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